Вакуумды ионды жабын (ионды қаптау деп аталады) 1963 жылы Америка Құрама Штаттарының Somdia компаниясы DM Mattox ұсынған, 1970-ші жылдар жаңа бетті өңдеу технологиясының қарқынды дамуы болды. Ол вакуумдық атмосферада булану көзін немесе шашырату нысанасын пайдалануды білдіреді, осылайша пленка материалының булануы немесе шашырауы, булануы немесе металл иондарына иондалған газ шығару кеңістігіндегі бөлшектердің бір бөлігінің шашырауы.
Бұл бөлшектер жұқа пленка процесін құру үшін электр өрісінің әсерінен субстратқа түседі.
Көптеген түрдегі вакуумды ионды қаптау, әдетте ион көзін алу үшін мембраналық материалға сәйкес екі түрге бөлінеді: булану көзі типті иондық қаптау және шашыратқыш мақсатты типті иондық қаптау. Біріншісі металл буларын алу үшін пленкалық материалды қыздыру арқылы буландырылады, осылайша ол металл буларына және газ разрядтық плазма кеңістігінде жоғары энергиялы бейтарап атомдарға, жұқа қабықшаларды генерациялау үшін субстратқа жету үшін электр өрісінің рөлі арқылы ішінара иондалады; соңғысы - иондарға немесе жоғары энергиялы бейтарап атомдарға иондалған газ разрядының кеңістігі арқылы бөлшектердің шашырауын жүзеге асыру, субстрат бетіне жету және пленканы қалыптастыру үшін пленкалық материалдың бетіне жоғары энергиялы иондарды (мысалы, Ar +) қолдану.
– Бұл мақаланы шығарғанвакуумды қаптау машинасының өндірушісіГуандун Чжэнхуа
Жіберу уақыты: 07 наурыз 2024 ж