Lapisan ion vakum (disebut minangka plating ion) yaiku Amerika Serikat ing taun 1963 perusahaan Somdia DM Mattox ngusulake, taun 1970-an wis dadi pangembangan teknologi perawatan permukaan anyar. Iku nuduhake nggunakake sumber penguapan utawa sputtering target ing atmosfer vakum supaya film materi penguapan utawa sputtering, penguapan utawa sputtering metu saka bagean saka partikel ing ruang discharge gas ionized menyang ion logam.
Partikel-partikel kasebut disimpen ing substrat ing tumindak medan listrik kanggo ngasilake proses film tipis.
Vakum ion plating saka macem-macem jinis, biasane miturut materi membran kanggo gawé sumber ion bakal dipérang dadi rong jinis: sumber penguapan jinis ion plating lan sputtering target jinis ion plating. Tilas wis nguap dening dadi panas materi film kanggo gawé vapors logam, supaya iku sebagian ionized menyang vapors logam lan dhuwur-energi atom Neutral ing papan saka plasma discharge gas, liwat peran saka kolom listrik kanggo nggayuh landasan kanggo generate film tipis; sing terakhir yaiku nggunakake ion energi dhuwur (contone, Ar +) ing permukaan bombardment materi film kanggo nggawe sputtering metu saka partikel liwat spasi saka discharge gas ionized menyang ion utawa atom Neutral energi dhuwur, kanggo nggayuh lumahing landasan lan generate film.
– Artikel iki dirilis deningpabrikan mesin lapisan vakumGuangdong Zhenhua
Post wektu: Mar-07-2024