① Ion Beam dibantu teknologi deposisi ditondoi dening adhesion kuwat antarane film lan landasan, lapisan film banget kuwat. Eksperimen wis ditampilake sing: ion Beam dibantu Deposition saka adhesion saka adhesion saka deposition uap termal tambah kaping pirang-pirang kanggo atusan kaping, alesan utamané amarga bombardment ion ing lumahing efek reresik, supaya antarmuka basa membran kanggo mbentuk struktur interfacial gradien, utawa lapisan transisi Sato, uga kanggo ngurangi kaku saka membran.
② Ion Beam dibantu deposition bisa nambah mechanical saka film, ngluwihi gesang lemes, cocok banget kanggo preparation saka oksida, carbide, kubik BN, TiB: lan kemul inten-kaya. Contone, ing 1Crl8Ni9Ti baja tahan panas ing nggunakake teknologi deposisi ion Beam-dibantu kanggo tuwuh 200nm SiN, film lancip, ora mung bisa nyandhet emergence saka retak lemes ing lumahing materi, nanging uga bisa Ngartekno nyuda lemes tingkat panyebaran crack, kanggo ngluwihi urip nduweni peran apik.
③ Deposisi sing dibantu sinar ion bisa ngganti sifat stres film lan owah-owahan struktur kristal. Contone, preparation saka film Cr karo 11.5keV Xe + utawa Ar + bombardment saka lumahing landasan, ketemu sing imbuhan saka suhu landasan, energi ion bombardment, ion lan atom rawuh rasio lan paramèter liyane, bisa nggawe kaku saka tensile kanggo kaku compressive, struktur kristal film uga bakal gawé owah-owahan. Ing rasio tartamtu saka ion kanggo atom, ion Beam dibantu deposisi duwe orientasi selektif luwih saka lapisan membran setor dening deposisi uap termal.
④ ion beam dibantu deposition bisa nambah resistance karat lan resistance oksidasi saka membran. Minangka ion Beam dibantu Deposition saka lapisan membran punika kandhel, membran basa antarmuka dandan struktur utawa tatanan saka negara amorf disebabake ilang saka wates gandum antarane partikel, kang kondusif kanggo nambah saka resistance karat lan resistance oksidasi saka materi.
Ningkatake resistensi karat saka materi lan nolak efek oksidasi suhu dhuwur.
(5) Deposisi sing dibantu sinar ion bisa ngganti sifat elektromagnetik film lan ningkatake kinerja film tipis optik. (6) Ion-dibantu deposition ngidini wutah saka macem-macem film lancip ing suhu kurang lan ngindari efek salabetipun ing bahan utawa bagean tliti sing bakal disebabake perawatan ing suhu dhuwur, wiwit paramèter related kanggo deposisi atom lan implantasi ion bisa diatur kanthi akurat lan independen, lan lapisan saka sawetara mikrometer karo komposisi konsisten bisa kui terus-terusan tenogo bombard ing kurang.
Post wektu: Mar-07-2024