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ホットワイヤーアーク強化プラズマ化学気相成長技術

記事出典:振華真空
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公開日:2005年5月23日

ホットワイヤーアーク強化プラズマ化学気相成長法は、ホットワイヤーアークガンからアークプラズマを発生させる技術であり、ホットワイヤーアークPECVD技術と略される。この技術はホットワイヤーアークガンイオンコーティング技術と似ているが、ホットワイヤーアークガンイオンコーティングではホットワイヤーアークガンから放出されるアーク光電子流を用いてるつぼ内の金属を加熱蒸発させるのに対し、ホットワイヤーアーク光PECVDではCH4やH2などの反応ガスを供給し、ダイヤモンド膜を成膜する。ホットワイヤーアークガンから放出される高密度アーク放電電流を利用して反応性ガスイオンを励起し、ガスイオン、原子イオン、活性基など様々な活性粒子を得る。

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ホットワイヤーアークPECVD装置では、コーティング室の外側に2つの電磁コイルが設置されており、高密度の電子流が陽極に向かって移動する際に回転することで、電子流と反応ガスとの衝突および電離の確率が高まります。また、電磁コイルはアーク柱に収束し、成膜室全体のプラズマ密度を高めることができます。アークプラズマでは、これらの活性粒子の密度が高いため、ワークピース上にダイヤモンド膜やその他の膜層を容易に成膜できます。

――この記事は広東振華科技によって公開されました。光学コーティング装置の製造業者.


投稿日時:2023年5月5日