Технология плазменно-химического осаждения из газовой фазы с использованием усиленной дуги горячей проволоки (HotWarc Enhanced Plasma Chemical Vapor Deposition) использует дуговой разрядник с горячей проволокой для генерации дуговой плазмы, сокращенно называемая технологией HotWarc Arc PECVD. Эта технология аналогична технологии ионного нанесения покрытий с использованием дугового разрядника с горячей проволокой, но разница заключается в том, что твердая пленка, полученная методом ионного нанесения покрытий с использованием дугового разрядника с горячей проволокой, использует поток электронов, испускаемый дуговым разрядником с горячей проволокой, для нагрева и испарения металла в тигле, в то время как в технологии HotWarc Arc Light PECVD используются реакционные газы, такие как CH4 и H2, которые применяются для осаждения алмазных пленок. Благодаря высокой плотности тока дугового разряда, испускаемого дуговым разрядником с горячей проволокой, ионы реактивных газов возбуждаются, образуя различные активные частицы, включая ионы газов, атомные ионы, активные группы и т. д.
В установке для PECVD с использованием горячей проволоки две электромагнитные катушки по-прежнему установлены вне камеры нанесения покрытия, вызывая вращение потока электронов высокой плотности во время его движения к аноду, что увеличивает вероятность столкновений и ионизации между потоком электронов и реакционным газом. Электромагнитные катушки также могут сходиться в дуговой столб, увеличивая плотность плазмы во всей камере осаждения. В дуговой плазме плотность этих активных частиц высока, что облегчает осаждение алмазных пленок и других пленочных слоев на заготовку.
— Данная статья была опубликована компанией Guangdong Zhenhua Technology.производитель машин для нанесения оптических покрытий.
Дата публикации: 05 мая 2023 г.