हॉट वायर आर्क वर्धित प्लाझ्मा रासायनिक वाष्प निक्षेप तंत्रज्ञान हॉट वायर आर्क गनचा वापर आर्क प्लाझ्मा उत्सर्जित करण्यासाठी करते, ज्याला संक्षिप्त रूपात हॉट वायर आर्क PECVD तंत्रज्ञान म्हणतात.हे तंत्रज्ञान हॉट वायर आर्क गन आयन कोटिंग तंत्रज्ञानासारखेच आहे, परंतु फरक असा आहे की हॉट वायर आर्क गन आयन कोटिंगद्वारे प्राप्त होणारी घन फिल्म हॉट वायर आर्क गनद्वारे उत्सर्जित होणारा आर्क लाइट इलेक्ट्रॉन प्रवाह वापरते आणि धातूचे बाष्पीभवन करते. क्रूसिबल, तर हॉट वायर आर्क लाइट PECVD ला प्रतिक्रिया वायू, जसे की CH4 आणि H2 दिले जातात, ज्याचा वापर डायमंड फिल्म्स जमा करण्यासाठी केला जातो.हॉट वायर आर्क गनद्वारे उत्सर्जित होणाऱ्या उच्च घनतेच्या चाप डिस्चार्ज करंटवर अवलंबून राहून, प्रतिक्रियाशील वायू आयन विविध सक्रिय कण मिळविण्यासाठी उत्तेजित होतात, ज्यात वायू आयन, अणु आयन, सक्रिय गट इ.
हॉट वायर आर्क PECVD यंत्रामध्ये, कोटिंग रूमच्या बाहेर दोन इलेक्ट्रोमॅग्नेटिक कॉइल अजूनही स्थापित आहेत, ज्यामुळे उच्च-घनतेचा इलेक्ट्रॉन प्रवाह एनोडच्या दिशेने हालचाली दरम्यान फिरतो, ज्यामुळे इलेक्ट्रॉन प्रवाह आणि प्रतिक्रिया वायू यांच्यात टक्कर आणि आयनीकरण होण्याची शक्यता वाढते. .संपूर्ण डिपॉझिशन चेंबरची प्लाझ्मा घनता वाढवण्यासाठी इलेक्ट्रोमॅग्नेटिक कॉइल चाप स्तंभात देखील एकत्रित होऊ शकते.आर्क प्लाझ्मामध्ये, या सक्रिय कणांची घनता जास्त असते, ज्यामुळे वर्कपीसवर डायमंड फिल्म्स आणि इतर फिल्म लेयर जमा करणे सोपे होते.
——हा लेख ग्वांगडोंग झेन्हुआ टेक्नॉलॉजी, एऑप्टिकल कोटिंग मशीनचे निर्माता.
पोस्ट वेळ: मे-०५-२०२३