வெப்பக் கம்பி வில் மேம்படுத்தப்பட்ட பிளாஸ்மா வேதி ஆவிப் படிவுத் தொழில்நுட்பம், வெப்பக் கம்பி வில் துப்பாக்கியைப் பயன்படுத்தி வில் பிளாஸ்மாவை வெளியிடுகிறது; இது வெப்பக் கம்பி வில் PECVD தொழில்நுட்பம் எனச் சுருக்கமாக அழைக்கப்படுகிறது. இந்தத் தொழில்நுட்பம் வெப்பக் கம்பி வில் துப்பாக்கி அயனிப் பூச்சுத் தொழில்நுட்பத்தைப் போன்றது, ஆனால் வேறுபாடு என்னவென்றால், வெப்பக் கம்பி வில் துப்பாக்கி அயனிப் பூச்சு மூலம் பெறப்படும் திடப் படலமானது, உருகும் கலனில் உள்ள உலோகத்தைச் சூடாக்கி ஆவியாக்குவதற்கு வெப்பக் கம்பி வில் துப்பாக்கியால் வெளியிடப்படும் வில் ஒளி எலக்ட்ரான் ஓட்டத்தைப் பயன்படுத்துகிறது. அதேசமயம், வெப்பக் கம்பி வில் ஒளி PECVD தொழில்நுட்பத்தில், வைரப் படலங்களைப் படியவைக்கப் பயன்படும் CH4 மற்றும் H2 போன்ற வினைபுரியும் வாயுக்கள் செலுத்தப்படுகின்றன. வெப்பக் கம்பி வில் துப்பாக்கியால் வெளியிடப்படும் உயர் அடர்த்தி வில் வெளியேற்ற மின்னோட்டத்தைச் சார்ந்து, வினைபுரியும் வாயு அயனிகள் கிளர்ச்சியூட்டப்பட்டு, வாயு அயனிகள், அணு அயனிகள், வினைபுரியும் குழுக்கள் மற்றும் பலவற்றை உள்ளடக்கிய பல்வேறு வினைபுரியும் துகள்கள் பெறப்படுகின்றன.
ஹாட் ஒயர் ஆர்க் PECVD சாதனத்தில், பூச்சு அறைக்கு வெளியே இரண்டு மின்காந்தச் சுருள்கள் பொருத்தப்பட்டுள்ளன. இதனால், உயர் அடர்த்தி கொண்ட எலக்ட்ரான் ஓட்டம் ஆனோடை நோக்கி நகரும்போது சுழன்று, எலக்ட்ரான் ஓட்டத்திற்கும் வினை வாயுவிற்கும் இடையே மோதல் மற்றும் அயனியாக்கம் ஏற்படுவதற்கான நிகழ்தகவு அதிகரிக்கிறது. மேலும், இந்த மின்காந்தச் சுருள் ஒரு வில் தூணாகக் குவிந்து, முழுப் படிவு அறையின் பிளாஸ்மா அடர்த்தியை அதிகரிக்கவும் செய்கிறது. வில் பிளாஸ்மாவில், இந்தச் செயல்படும் துகள்களின் அடர்த்தி அதிகமாக இருப்பதால், வேலைப் பொருளின் மீது வைரப் படலங்களையும் மற்ற படல அடுக்குகளையும் படிய வைப்பது எளிதாகிறது.
இந்தக் கட்டுரை குவாங்டாங் ஜென்ஹுவா டெக்னாலஜி என்ற நிறுவனத்தால் வெளியிடப்பட்டது.ஒளியியல் பூச்சு இயந்திரங்களின் உற்பத்தியாளர்.
பதிவிட்ட நேரம்: மே-05-2023