Ang hot wire arc enhanced plasma chemical vapor deposition technology naggamit sa hot wire arc gun aron mopagawas og arc plasma, nga gipamubo isip hot wire arc PECVD technology. Kini nga teknolohiya susama sa hot wire arc gun ion coating technology, apan ang kalainan mao nga ang solid film nga makuha pinaagi sa hot wire arc gun ion coating naggamit sa arc light electron flow nga gipagawas sa hot wire arc gun aron ipainit ug i-evaporate ang metal sa crucible, samtang ang hot wire arc light PECVD gipakaon og mga reaction gas, sama sa CH4 ug H2, nga gigamit sa pagdeposito sa mga diamond film. Pinaagi sa pagsalig sa high-density arc discharge current nga gipagawas sa hot wire arc gun, ang reactive gas ions naghinam-hinam nga makakuha og lain-laing aktibong partikulo, lakip ang mga gas ion, atomic ion, aktibong grupo, ug uban pa.
Sa hot wire arc PECVD device, duha ka electromagnetic coil ang na-install gihapon sa gawas sa coating room, hinungdan nga ang high-density electron flow mo-rotate atol sa paglihok padulong sa anode, nga nagdugang sa posibilidad sa bangga ug ionization tali sa electron flow ug sa reaction gas. Ang electromagnetic coil mahimo usab nga magtapok ngadto sa usa ka arc column aron madugangan ang plasma density sa tibuok deposition chamber. Sa arc plasma, ang density niining mga aktibong partikulo taas, nga naghimo niini nga mas sayon ang pagdeposito sa diamond films ug uban pang film layers sa workpiece.
——Kini nga artikulo gipagawas sa Guangdong Zhenhua Technology, usa katiggama sa mga makina sa optical coating.
Oras sa pag-post: Mayo-05-2023