本装置は垂直二重扉構造です。DCマグネトロンスパッタリングコーティング技術、抵抗蒸着コーティング技術、CVDコーティング技術、中周波イオン洗浄システムを統合した複合装置です。お客様の複雑な製品プロセスに適しています。

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合し、独自のホイールハブクランプと自動回転治具設計により、色の均一性、成膜速度、化合物組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。製品のさまざまな要件に応じて、...

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合しており、色の均一性、成膜速度、化合物組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。製品の要件に応じて、加熱システム、バイアスシステム、イオン化システムなどの装置が組み合わされます。

この装置はマグネトロンスパッタリングと抵抗蒸着技術を統合しており、様々な基板へのコーティングに対応するソリューションを提供します。この実験用コーティング装置は主に大学や研究機関で使用されており、様々な実験ニーズに対応できます。

大型金属指紋防止コーティング装置は、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、および指紋防止コーティングシステムを備えており、高級大型ステンレス鋼部品の装飾性と防汚性に関する二重の要求を満たしています。

本装置は、高速蒸着速度、高エネルギー、高金属イオン化率を特徴とする陰極アーク蒸着イオンコーティング技術を採用しています。陰極アークは、さまざまな要求に応じて組み合わせることができ、さまざまなプロセスに対応できます。本装置は、...

本装置はマルチアークイオンコーティング技術を採用しており、操作が簡単で、排気速度が速く、効率が高く、プロセス再現性が高いという利点があります。また、ワークピースのアップロードとダウンロードが容易なダブルステーション可動式ワークピースラックを備えています。

高級衛生陶器向けの大型指紋防止コーティング装置は、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、および指紋防止コーティングシステムを備えており、高級衛生陶器の金属部品とセラミック部品の両方の要件を満たしています。

本装置は電子ビーム蒸着技術を採用している。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位差によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させる。本装置は、以下のような特徴を有する。

携帯電話業界の需要が急速に拡大するにつれ、従来の光学コーティング装置の積載能力ではこの需要を満たすことができなくなりました。ZHENHUAは、この需要を満たすためにマグネトロンスパッタリング光学コーティング装置を発売しました。装置の特徴：（1）ワークピースラックは円筒形設計を採用しています...

本装置は、マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、指紋防止コーティングシステム、およびSPEEDFLO閉ループ制御を備えています。中周波マグネトロンスパッタリング技術と指紋防止技術を採用した、精密なナノコーティング向けに特別に設計された装置です。

CF1914装置は、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、陽極層イオン源、SPEEDFLO閉ループ制御、水晶制御モニタリングシステムを備えています。中周波マグネトロンスパッタリング技術は、様々な酸化物の成膜に使用されます。従来の…

装置の利点　この装置は電子ビーム蒸着技術を採用しており、陰極フィラメントから放出された電子が特定のビーム電流に集束されます。その後、陰極とるつぼ間の電位差によってビームが加速され、コーティング材料が…

本装置は電子ビーム蒸着技術を採用している。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位差によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させる。本装置は、以下のような特徴を有する。

本装置は電子ビーム蒸着技術を採用している。陰極フィラメントから放出された電子は一定のビーム電流に集束され、陰極とるつぼ間の電位差によって加速され、コーティング材料を溶融・蒸発させる。本装置は、以下のような特徴を有する。

大型金属指紋防止コーティング装置は、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、および指紋防止コーティングシステムを備えており、高級大型ステンレス鋼部品の装飾性と防汚性に関する二重の要求を満たしています。

現在の市場ではジュエリーの着用性に対する要求がますます高まっているため、当社はジュエリー業界向けに特殊な保護フィルム製造装置を開発しました。この装置はCVDコーティングシステムと保護フィルムコーティングシステムを採用しており、超耐腐食性コーティングを製造できます。

指紋防止コーティング装置は、磁気制御コーティングAF指紋防止技術を採用しており、指紋防止水滴角度は115°以上に達します。このフィルムは、優れた疎水性、高い安定性、優れた防汚性、防水性、耐摩耗性を備えています。

高級衛生陶器向けの大型指紋防止コーティング装置は、陰極アークイオンコーティングシステム、中周波マグネトロンスパッタリングコーティングシステム、および指紋防止コーティングシステムを備えており、高級衛生陶器の金属部品とセラミック部品の両方の要件を満たしています。

硬質コーティングの耐摩耗性、潤滑性、耐食性などの特性向上に対する市場需要の急速な高まりに伴い、陰極アーク磁気ろ過イオンコーティング装置が注目を集めています。この装置は、最も一般的に使用され効果的な90度…を採用しています。

本装置の陰極は、フロントコイルと永久磁石の重ね合わせによる二重駆動技術を採用し、陽極層イオン源エッチングシステムおよび三次元多角度治具と連携して、複数ステーションでの同時作業を実現します。大径陰極を搭載し…

本装置は陰極アークイオンコーティング技術を採用し、高度なIETエッチングシステムを搭載しています。処理後、製品は中間層なしで直接硬質コーティングを施すことができます。同時に、従来のアーク技術は永久磁石＋電磁石技術へとアップグレードされています。

サファイア膜ハードコーティング装置は、サファイア膜を成膜するための専門装置です。この装置は、中周波反応性マグネトロンスパッタリング、CVD、AFの3つのコーティングシステムを統合しており、製品上に低摩擦係数の透明で高硬度の膜を提供できます。

真空チャンバー内で、抵抗加熱法を用いてコーティング材料を蒸発させ、基板上に堆積させることで、基板表面に金属質感を与え、装飾目的を達成する。この方法は、成膜速度が速く、発色が鮮やかで、高い生産性を特徴とする。

本装置は垂直二重扉構造です。DCマグネトロンスパッタリングコーティング技術、抵抗蒸着コーティング技術、CVDコーティング技術、中周波イオン洗浄システムを統合した複合装置です。お客様の複雑な製品プロセスに適しています。

ZHENHUAが開発したランプ保護フィルム装置は、PC/ABSランプに塗装を施す必要があったという長年の問題を解決します。この装置により、ランプの射出成形部品を直接真空チャンバーに入れ、蒸着と保護フィルムコーティング工程を一度に完了させることができます。

ZHENHUAが開発したランプ保護フィルム装置は、PC/ABSランプに塗装を施す必要があったという長年の問題を解決します。この装置により、ランプの射出成形部品を直接真空チャンバーに入れ、蒸着と保護フィルムコーティング工程を一度に完了させることができます。

マグネトロンスパッタリング装置は、マグネトロンスパッタリング法を用いて、真空環境下でコーティング材料を気体またはイオン状態に変化させ、それをワークピース上に堆積させて緻密な膜を形成する。これにより、表面状態を改善したり、特定の特殊性能を得たりすることができる。

この一連の装置は、低融点で蒸発しやすいコーティング材料を中周波誘導炉または蒸発モリブデンボートで加熱することによりナノ粒子に変換し、ワークピースの表面に堆積させてフィルムを形成する。ロール状のフィルムは…

この一連の装置は、マグネトロンターゲットを用いてコーティング材料をナノメートルサイズの粒子に変換し、それを基板表面に堆積させて薄膜を形成する。巻き取られたフィルムは真空チャンバー内に配置される。電気的に駆動される巻き取り構造を通して、一方の端が…

真空状態で、ワークピースを低圧グロー放電の陰極上に置き、適切なガスを注入する。一定温度で、化学反応とプラズマを組み合わせたイオン化重合プロセスを用いてワークピース表面にコーティングを得る。同時に、ガスは…

化学気相成長装置の真空コーティングチャンバーは、独立した二層水冷構造を採用しており、冷却効率が高く均一で、安全かつ安定した構造となっています。装置は二重扉、複数の観察窓、複数の…

本装置は主に化学気相成長法を用いて酸化膜を作製し、高速成膜と高膜厚という特徴を有しています。装置構造としては、クランプ効率を向上させるために二重扉構造を採用し、最新の液化ガス供給システムを搭載しています。

真空プラズマ洗浄装置は一体構造を採用し、RFイオン洗浄システムを搭載、全自動制御で操作とメンテナンスが容易です。RF高周波発生器は高密度プラズマを生成し、ワークピース表面を活性化、エッチング、灰化して、効果的に除去します。

この装置はマグネトロンスパッタリングとイオンコーティング技術を統合しており、色の均一性、成膜速度、化合物組成の安定性を向上させるソリューションを提供します。製品の要件に応じて、加熱システム、バイアスシステム、イオン化システムなどの装置が組み合わされます。

この装置はマグネトロンスパッタリングと抵抗蒸着技術を統合しており、様々な基板へのコーティングに対応するソリューションを提供します。この実験用コーティング装置は主に大学や研究機関で使用されており、様々な実験ニーズに対応できます。

真空プラズマ洗浄装置は一体構造を採用し、RFイオン洗浄システムを搭載、全自動制御で操作とメンテナンスが容易です。RF高周波発生器は高密度プラズマを生成し、ワークピース表面を活性化、エッチング、灰化して、効果的に除去します。

実験用ロールツーロールコーティング装置は、マグネトロンスパッタリングと陰極アークを組み合わせたコーティング技術を採用しており、膜の緻密性と高いイオン化率の両方の要求を満たしています。装置は垂直構造で、ワークピース巻き取りシステムは垂直に配置されています。