Teknologi Deposisi Berkas Ion

① Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion ditandai dengan daya rekat yang kuat antara film dan substrat, lapisan film sangat kuat. Eksperimen telah menunjukkan bahwa: daya rekat pengendapan berbantuan sinar ion meningkat beberapa kali lipat hingga ratusan kali lipat dibandingkan daya rekat pengendapan uap termal, alasannya terutama karena pemboman ion pada permukaan efek pembersihan, sehingga antarmuka dasar membran membentuk struktur antarmuka gradien, atau lapisan transisi hibrida, serta mengurangi tegangan membran.

② Deposisi berbantuan sinar ion dapat meningkatkan sifat mekanis film, memperpanjang umur lelah, sangat cocok untuk persiapan oksida, karbida, BN kubik, TiB: dan pelapis seperti berlian. Misalnya, pada baja tahan panas 1Crl8Ni9Ti pada penggunaan teknologi deposisi berbantuan sinar ion untuk menumbuhkan film tipis SiN 200nm, tidak hanya dapat menghambat munculnya retak lelah pada permukaan material, tetapi juga dapat secara signifikan mengurangi laju difusi retak lelah, untuk memperpanjang umurnya memiliki peran yang baik.

③ Deposisi berbantuan sinar ion dapat mengubah sifat tegangan film dan mengubah struktur kristalnya. Misalnya, persiapan film Cr dengan pemboman Xe+ atau Ar+ 11,5 keV pada permukaan substrat, ditemukan bahwa penyesuaian suhu substrat, energi ion pemboman, rasio kedatangan ion dan atom dan parameter lainnya, dapat membuat tegangan dari tegangan tarik menjadi tegangan tekan, struktur kristal film juga akan menghasilkan perubahan. Di bawah rasio ion terhadap atom tertentu, deposisi berbantuan sinar ion memiliki orientasi selektif yang lebih baik daripada lapisan membran yang diendapkan dengan deposisi uap termal.

④ Deposisi berbantuan sinar ion dapat meningkatkan ketahanan terhadap korosi dan ketahanan terhadap oksidasi membran. Karena deposisi berbantuan sinar ion pada lapisan membran padat, peningkatan struktur antarmuka dasar membran atau pembentukan keadaan amorf disebabkan oleh hilangnya batas butir antara partikel, yang kondusif untuk peningkatan ketahanan terhadap korosi dan ketahanan terhadap oksidasi material.

Meningkatkan ketahanan material terhadap korosi dan menahan efek oksidasi suhu tinggi.

(5) Deposisi berbantuan sinar ion dapat mengubah sifat elektromagnetik film dan meningkatkan kinerja film tipis optik. (6) Deposisi berbantuan ion memungkinkan pertumbuhan berbagai film tipis pada suhu rendah dan menghindari efek buruk pada material atau komponen presisi yang akan disebabkan oleh perlakuan pada suhu tinggi, karena parameter yang terkait dengan deposisi atom dan implantasi ion dapat disesuaikan secara akurat dan independen, dan lapisan beberapa mikrometer dengan komposisi yang konsisten dapat dihasilkan secara terus-menerus pada energi pemboman rendah.