A vákuumionos bevonatolást (más néven ionbevonatolás) az Egyesült Államokban 1963-ban a DM Mattox cég javasolta. Az 1970-es években gyors fejlődésnek indult egy új felületkezelési technológia. Ez egy párolgási forrás vagy porlasztási célpont használatát jelenti vákuumatmoszférában, hogy a filmanyag elpárologjon vagy porlasztva, a gázkisülési térben lévő részecskék egy részét fémionokká ionizálja.
Ezek a részecskék elektromos tér hatására rakódnak le az aljzatra, ami egy vékonyréteg-képződést eredményez.
A vákuumos ionbevonatolásnak számos fajtája létezik, általában az ionforrás előállításához használt membránanyag szerint, két típusra oszthatók: párologtatásos forrás típusú ionbevonatolás és porlasztásos célpont típusú ionbevonatolás. Az előbbinél a filmanyagot melegítéssel párologtatják el, ami fémgőzöket eredményez, így az részben ionizálódik fémgőzökké és nagy energiájú semleges atomokká a gázkisülés plazmaterében, majd elektromos tér hatására eléri a szubsztrátot, és vékony filmeket hoz létre; az utóbbi során nagy energiájú ionokat (pl. Ar+) bombáznak a filmanyag felületére, aminek hatására a gázkisülés terében ionizálódó részecskék porlasztással ionizálódnak, vagy nagy energiájú semleges atomokká válnak, elérik a szubsztrát felületét és létrehozzák a filmet.
– Ezt a cikket a következő tette közzé:vákuumbevonó gép gyártóGuangdong Zhenhua
Közzététel ideje: 2024. márc. 7.