ʻO ʻAmelika Hui Pū ʻIa i ka makahiki 1963 ʻo DM Mattox ka hui Somdia i manaʻo ʻia, ʻo ka makahiki 1970 ka wikiwiki o ka hoʻomohala ʻana i kahi ʻenehana lapaʻau hou. E pili ana ia i ka hoʻohana ʻana i ke kumu hoʻoheheʻe a i ʻole ka sputtering target i loko o kahi lewa a i ʻole e hoʻoheheʻe ʻia ka mea kiʻiʻoniʻoni a i ʻole ka sputtering, evaporation a i ʻole sputtering mai kahi ʻāpana o nā mea i loko o ka lumi hoʻokuʻu kinoea i hoʻokaʻawale ʻia i loko o nā ion metala.
Hoʻokomo ʻia kēia mau ʻāpana ma ka substrate ma lalo o ka hana o ke kahua uila e hana i kahi kaʻina hana kiʻiʻoniʻoni.
Vacuum ion plating o na ano he nui, maʻamau e like me ka membrane mea e hana i ka ion kumu e maheleia i elua ano: evaporation kumu ano ion plating a me ka sputtering target type ion plating. Hoʻopau ʻia ka mea mua ma ka hoʻomehana ʻana i ka mea kiʻiʻoniʻoni e hana i nā mahu metala, no laila ua hoʻokaʻawale ʻia ʻo ia i loko o nā mahu metala a me nā ʻātoma kūʻokoʻa kiʻekiʻe i loko o ka lumi o ke kinoea hoʻokuʻu plasma, ma o ke kuleana o ke kahua uila e hiki i ka substrate e hana i nā kiʻiʻoniʻoni lahilahi; ʻO ka hope ka hoʻohana ʻana i nā ion ikehu kiʻekiʻe (e laʻa, Ar +) ma luna o ka ʻili o ka mea kiʻiʻoniʻoni bombardment e hana i ka sputtering mai nā ʻāpana ma o ke ākea o ka hoʻokuʻu kinoea i hoʻokaʻawale ʻia i loko o nā ion a i ʻole nā atoma kūʻokoʻa ikaika nui, e hiki i ka ʻili o ka substrate a hana i ke kiʻiʻoniʻoni.
-Ua hoʻokuʻu ʻia kēia ʻatikala emea hana mīkini hoʻopaʻa haʻahaʻaGuangdong Zhenhua
Ka manawa hoʻouna: Mar-07-2024