1. La technologie de dépôt assisté par faisceau d'ions se caractérise par une forte adhérence entre le film et le substrat, ce qui confère à la couche de film une très grande résistance. Des expériences ont montré que l'adhérence du dépôt assisté par faisceau d'ions est plusieurs fois supérieure à celle du dépôt thermique en phase vapeur. Cela s'explique principalement par l'effet nettoyant du bombardement ionique sur la surface, ce qui permet de former une structure interfaciale à gradient, ou couche de transition hybride, avec la base de la membrane, et de réduire les contraintes sur la membrane.
2. Le dépôt assisté par faisceau d'ions peut améliorer les propriétés mécaniques du film et prolonger sa durée de vie. Il est particulièrement adapté à la préparation d'oxydes, de carbures, de BN cubique, de TiB et de revêtements diamantés. Par exemple, dans l'acier réfractaire 1Crl8Ni9Ti, l'utilisation de la technologie de dépôt assisté par faisceau d'ions pour la croissance d'une couche mince de SiN2 de 200 nm permet non seulement d'inhiber l'apparition de fissures de fatigue à la surface du matériau, mais aussi de réduire considérablement leur taux de diffusion, ce qui contribue à prolonger sa durée de vie.
3. Le dépôt assisté par faisceau d'ions peut modifier la nature des contraintes du film et sa structure cristalline. Par exemple, la préparation d'un film de chrome par bombardement de Xe+ ou d'Ar+ à 11,5 keV sur la surface du substrat a montré que l'ajustement de la température du substrat, de l'énergie ionique de bombardement, du rapport d'arrivée des ions et des atomes, ainsi que d'autres paramètres, peut faire passer la contrainte de traction à la contrainte de compression, et modifier la structure cristalline du film. Sous un certain rapport ions/atomes, le dépôt assisté par faisceau d'ions présente une meilleure orientation sélective que la couche membranaire déposée par dépôt thermique en phase vapeur.
④ Le dépôt assisté par faisceau d'ions peut améliorer la résistance à la corrosion et à l'oxydation de la membrane. La densité de la couche membranaire permet d'améliorer la structure de l'interface de base de la membrane ou de former un état amorphe par disparition des joints de grains entre les particules, ce qui contribue à améliorer la résistance à la corrosion et à l'oxydation du matériau.
Améliore la résistance à la corrosion du matériau et résiste à l'effet oxydant des températures élevées.
(5) Le dépôt assisté par faisceau d'ions peut modifier les propriétés électromagnétiques du film et améliorer les performances des films minces optiques. (6) Le dépôt assisté par ions permet la croissance de divers films minces à basse température et évite les effets néfastes sur les matériaux ou les pièces de précision qui seraient causés par un traitement à haute température, car les paramètres liés au dépôt atomique et à l'implantation ionique peuvent être ajustés avec précision et indépendamment, et des revêtements de quelques micromètres avec une composition cohérente peuvent être générés en continu à de faibles énergies de bombardement.
Date de publication : 07/03/2024