① Ioi-izpien bidezko deposizio teknologiak filmaren eta substratuaren arteko atxikimendu sendoa du ezaugarri, film-geruza oso sendoa baita. Esperimentuek erakutsi dute ioi-izpien bidezko deposizioak atxikimendu-maila hainbat aldiz edo ehunka aldiz handitzen dela lurrun-deposizio termikoaren atxikimendua baino. Arrazoia batez ere ioien bonbardaketaren gainazalean garbiketa-efektua dela eta gertatzen da, mintzaren oinarriaren interfazeak gradiente interfazialaren egitura bat edo trantsizio-geruza hibrido bat eratuz, eta mintzaren tentsioa murrizteaz gain.
② Ioi-sorta bidezko deposizioak filmaren propietate mekanikoak hobetu ditzake, nekearen bizitza luzatu, eta oso egokia da oxidoak, karburoak, BN kubikoa, TiB: eta diamante itxurako estaldurak prestatzeko. Adibidez, 1Crl8Ni9Ti altzairu beroarekiko erresistentean, ioi-sorta bidezko deposizio teknologia erabiliz 200nm SiN film meheak haztean, materialaren gainazalean nekearen pitzadurak agertzea eragotzi ez ezik, nekearen pitzaduraren difusio-tasa nabarmen murriztu dezake, eta horrek bere bizitza luzatzea eragin handia du.
③ Ioi-sorta bidezko deposizioak filmaren tentsio-izaera alda dezake eta bere egitura kristalinoa aldatu. Adibidez, Cr filma substratuaren gainazalaren 11.5keV-ko Xe+ edo Ar+ bonbardaketarekin prestatzean, ikusi da substratuaren tenperatura, bonbardaketa-ioien energia, ioien eta atomoen iriste-erlazioa eta beste parametro batzuk doitzean tentsioa trakzio-tentsiotik konpresio-tentsiora alda daitekeela, eta filmaren kristal-egiturak ere aldaketak eragingo dituela. Ioi eta atomoen arteko erlazio jakin baten pean, ioi-sorta bidezko deposizioak orientazio selektibo hobea du lurrun-termiko deposizio bidez metatutako mintz-geruzak baino.
④ Ioi-sorta bidezko deposizioak mintzaren korrosioarekiko eta oxidazioarekiko erresistentzia hobetu dezake. Mintz-geruzaren ioi-sorta bidezko deposizioa trinkoa denez, mintzaren oinarriaren interfazearen egitura hobetzen da edo partikulen arteko ale-mugaren desagerpenak eragindako egoera amorfoa sortzen da, eta horrek materialaren korrosioarekiko eta oxidazioarekiko erresistentzia hobetzen laguntzen du.
Materialaren korrosioarekiko erresistentzia hobetu eta tenperatura altuaren oxidazio-efektuari aurre egin.
(5) Ioi-izpien bidezko deposizioak filmaren propietate elektromagnetikoak alda ditzake eta film optiko meheen errendimendua hobetu. (6) Ioi-bidezko deposizioak hainbat film mehe haztea ahalbidetzen du tenperatura baxuetan eta tenperatura altuetan egindako tratamenduak materialetan edo zehaztasun-piezetan eragingo lituzkeen ondorio kaltegarriak saihesten ditu, deposizio atomikoarekin eta ioien inplantazioarekin lotutako parametroak zehaztasunez eta modu independentean doi daitezkeelako, eta konposizio koherentea duten mikrometro gutxi batzuetako estaldurak etengabe sor daitezkeelako bonbardaketa-energia baxuetan.
Argitaratze data: 2024ko martxoaren 7a