Vaakumioonkatmine (edaspidi ioonkatmine) on Ameerika Ühendriikide ettevõtte DM Mattox 1963. aastal välja pakutud meetod. 1970. aastatel toimus uue pinnatöötlustehnoloogia kiire areng. See viitab aurustusallika või pihustussihtmärgi kasutamisele vaakumatmosfääris, et kilematerjal aurustuks või pihustaks, ioniseerides osa osakestest gaaslahendusruumis metalliioonideks.
Need osakesed ladestuvad elektrivälja mõjul aluspinnale, moodustades õhukese kile.
Vaakum-ioonkatmist on mitut tüüpi, tavaliselt vastavalt ioonallika tootmiseks kasutatavale membraanimaterjalile, jagatakse kahte tüüpi: aurustusallika tüüpi ioonkatmine ja pihustussihtmärgi tüüpi ioonkatmine. Esimene toimub kilematerjali aurustamise teel, mille käigus tekitatakse metalliaurud, mille tulemusel see ioniseerub elektrivälja abil kilematerjali pinnal osaliselt metalliaurudeks ja kõrge energiaga neutraalseteks aatomiteks gaaslahendusplasma ruumis, et jõuda aluspinnale õhukeste kilede moodustamiseks; teine toimub kõrge energiaga ioonide (nt Ar+) pommitamise teel kilematerjali pinnale, mille tulemusel osakesed pihustatakse gaaslahenduse ruumis ioniseerituna ioonideks või kõrge energiaga neutraalseteks aatomiteks, et jõuda aluspinnale ja moodustada kile.
– Selle artikli avaldasvaakumkatmismasinate tootjaGuangdongi Zhenhua
Postituse aeg: 07.03.2024