Tecnología de deposición por haz de iones

① La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la película y el sustrato, lo que permite una capa de película muy resistente. Experimentos han demostrado que la adhesión de la deposición asistida por haz de iones es varias veces superior a la de la deposición térmica de vapor. Esto se debe principalmente al efecto de limpieza del bombardeo de iones sobre la superficie, lo que permite que la interfaz de la base de la membrana forme una estructura interfacial de gradiente o capa de transición híbrida, además de reducir la tensión de la membrana.

② La deposición asistida por haz de iones mejora las propiedades mecánicas de la película y prolonga su vida útil, lo que la hace ideal para la preparación de óxidos, carburos, BN cúbico, TiB y recubrimientos tipo diamante. Por ejemplo, en aceros resistentes al calor 1Crl8Ni9Ti, la deposición asistida por haz de iones para generar una película delgada de SiN de 200 nm no solo inhibe la aparición de grietas por fatiga en la superficie del material, sino que también reduce significativamente su tasa de difusión, lo que contribuye a prolongar su vida útil.

③ La deposición asistida por haz de iones puede modificar la naturaleza de la tensión de la película y su estructura cristalina. Por ejemplo, en la preparación de una película de Cr mediante bombardeo de Xe+ o Ar+ a 11,5 keV sobre la superficie del sustrato, se observó que el ajuste de la temperatura del sustrato, la energía iónica del bombardeo, la relación de llegada de iones y átomos, y otros parámetros, puede modificar la tensión de tracción a compresión, lo que también modifica la estructura cristalina de la película. Con una determinada relación de iones a átomos, la deposición asistida por haz de iones presenta una mejor orientación selectiva que la capa de membrana depositada mediante deposición térmica de vapor.

④ La deposición asistida por haz de iones puede mejorar la resistencia a la corrosión y a la oxidación de la membrana. Dado que la deposición asistida por haz de iones de la capa de membrana es densa, la estructura de la interfaz entre la membrana y la base se mejora o se forma un estado amorfo debido a la desaparición del límite de grano entre las partículas, lo que favorece la mejora de la resistencia a la corrosión y a la oxidación del material.

Mejora la resistencia a la corrosión del material y resiste el efecto oxidante de las altas temperaturas.

(5) La deposición asistida por haz de iones puede cambiar las propiedades electromagnéticas de la película y mejorar el rendimiento de las películas delgadas ópticas. (6) La deposición asistida por iones permite el crecimiento de varias películas delgadas a bajas temperaturas y evita los efectos adversos en los materiales o piezas de precisión que serían causados ​​por el tratamiento a altas temperaturas, ya que los parámetros relacionados con la deposición atómica y la implantación de iones se pueden ajustar de forma precisa e independiente, y se pueden generar recubrimientos de unos pocos micrómetros con una composición consistente de forma continua a bajas energías de bombardeo.