Vakuumionbelægning (kaldet ionbelægning) er et forslag fra firmaet DM Mattox fra Somdia i USA i 1963. Der var en hurtig udvikling af en ny overfladebehandlingsteknologi i 1970'erne. Det refererer til brugen af fordampningskilder eller sputteringsmål i en vakuumatmosfære, hvorved filmmaterialet fordamper eller sputter, og en del af partiklerne i gasudledningsrummet fordamper eller sputter, og ioniseres til metalioner.
Disse partikler aflejres på substratet under påvirkning af et elektrisk felt for at generere en tyndfilmsproces.
Vakuumionbelægning af mange typer, normalt afhængigt af membranmaterialet, der anvendes til fremstilling af ionkilden, vil blive opdelt i to typer: ionbelægning af fordampningskildetypen og ionbelægning af forstøvningsmåltypen. Førstnævnte er fordampning af filmmaterialet ved opvarmning for at producere metaldampe, således at det delvist ioniseres til metaldampe og højenergineutrale atomer i gasudladningsplasmaet, hvorved det elektriske felt når substratet og genererer tynde film; sidstnævnte er brugen af højenergiioner (f.eks. Ar+) på filmmaterialets overflade for at forårsage forstøvning, hvor partiklerne ioniseres til ioner eller højenergineutrale atomer gennem gasudladningsrummet for at nå substratets overflade og generere filmen.
– Denne artikel er udgivet afproducent af vakuumbelægningsmaskinerGuangdong Zhenhua
Opslagstidspunkt: 7. marts 2024