① Technologie depozice s asistencí iontového svazku se vyznačuje silnou adhezí mezi filmem a substrátem, přičemž vrstva filmu je velmi pevná. Experimenty ukázaly, že: depozice s asistencí iontového svazku má několikanásobně až stonásobně vyšší adhezi než tepelná depozice z plynné fáze. Důvodem je především čisticí účinek iontového bombardování povrchu, takže na rozhraní membrány se tvoří gradientní mezifázová struktura neboli hybridní přechodová vrstva, a zároveň se snižuje napětí membrány.
② Depozice s asistencí iontového svazku může zlepšit mechanické vlastnosti filmu a prodloužit jeho životnost, což je velmi vhodné pro přípravu oxidů, karbidů, kubického BN, TiB: a diamantových povlaků. Například u žáruvzdorné oceli 1Crl8Ni9Ti, která je vyrobena technologií depozice s asistencí iontového svazku a má tloušťku 200 nm, může být tenký film SiN nejen potlačen vznikem únavových trhlin na povrchu materiálu, ale také může výrazně snížit rychlost šíření únavových trhlin a prodloužit tak jeho životnost.
③ Depozice s asistencí iontového svazku může změnit povahu napětí ve filmu a jeho krystalickou strukturu. Například při přípravě Cr filmu bombardováním povrchu substrátu Xe+ nebo Ar+ o energii 11,5 keV bylo zjištěno, že úpravou teploty substrátu, energie bombardování iontů, poměru příchodu iontů a atomů a dalších parametrů lze změnit napětí z tahu na tlak, což také způsobí změny v krystalové struktuře filmu. Při určitém poměru iontů k atomům má depozice s asistencí iontového svazku lepší selektivní orientaci než membránová vrstva nanesená tepelnou depozicí z plynné fáze.
④ Depozice s pomocí iontového svazku může zvýšit odolnost membrány proti korozi a oxidaci. Vzhledem k tomu, že membránová vrstva nanesená iontovým svazkem je hustá, zlepšuje se struktura rozhraní membránové báze nebo vzniká amorfní stav v důsledku mizení hranic zrn mezi částicemi, což vede ke zvýšení odolnosti materiálu proti korozi a oxidaci.
Zvyšuje odolnost materiálu proti korozi a odolává oxidačnímu účinku vysokých teplot.
(5) Depozice s asistencí iontového svazku může změnit elektromagnetické vlastnosti filmu a zlepšit výkon optických tenkých filmů. (6) Depozice s asistencí iontů umožňuje růst různých tenkých filmů při nízkých teplotách a zabraňuje nepříznivým účinkům na materiály nebo přesné součásti, které by byly způsobeny zpracováním při vysokých teplotách, protože parametry související s atomovou depozicí a iontovou implantací lze přesně a nezávisle nastavit a povlaky o tloušťce několika mikrometrů s konzistentním složením lze vytvářet kontinuálně při nízkých energiích bombardování.
Čas zveřejnění: 7. března 2024