U rivestimentu ionicu à vacuum (chjamatu placcatura ionica) hè statu prupostu in i Stati Uniti in u 1963 da a cumpagnia Somdia DM Mattox, in l'anni 1970 ci hè statu un rapidu sviluppu di una nova tecnulugia di trattamentu di superficia. Si riferisce à l'usu di una fonte d'evaporazione o di un bersagliu di sputtering in una atmosfera di vacuum in modu chì u materiale di a film s'evapora o sputtering, l'evaporazione o sputtering fora di una parte di e particelle in u spaziu di scarica di gas ionizate in ioni metallichi.
Queste particelle sò dipusitate nantu à u sustratu sottu l'azione di u campu elettricu per generà un prucessu di film sottile.
A placcatura ionica à vuoto di parechji tipi, di solitu secondu u materiale di a membrana per pruduce a fonte di ioni, serà divisa in dui tipi: placcatura ionica di tipu fonte d'evaporazione è placcatura ionica di tipu bersagliu di sputtering. U primu hè evaporatu scaldendu u materiale di u film per pruduce vapori metallichi, in modu chì sia parzialmente ionizatu in vapori metallichi è atomi neutri d'alta energia in u spaziu di u plasma di scarica di gas, attraversu u rolu di u campu elettricu per ghjunghje à u sustratu per generà filmi sottili; u secondu hè l'usu di ioni d'alta energia (per esempiu, Ar +) nantu à a superficia di u bumbardamentu di materiale di u film per fà u sputtering di e particelle attraversu u spaziu di a scarica di gas ionizata in ioni o atomi neutri d'alta energia, per ghjunghje à a superficia di u sustratu è generà u film.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 07 marzu 2024