Tecnulugia di Deposizione di Fasciculi Ionici

① A tecnulugia di deposizione assistita da fasciu ionicu hè carattarizata da una forte adesione trà u film è u sustratu, u stratu di film hè assai forte. L'esperimenti anu dimustratu chì: a deposizione assistita da fasciu ionicu di l'adesione hè aumentata parechje volte à centinaie di volte cà a deposizione di vapore termicu, a ragione hè principalmente per via di u bumbardamentu ionicu nantu à a superficia di l'effettu di pulizia, cusì chì l'interfaccia di basa di a membrana forma una struttura interfacciale di gradiente, o stratu di transizione ibrida, è ancu per riduce u stress di a membrana.

② A deposizione assistita da fasciu ionicu pò migliurà e proprietà meccaniche di u film, allargà a vita di fatica, assai adatta per a preparazione di ossidi, carburi, BN cubicu, TiB: è rivestimenti simili à diamanti. Per esempiu, in l'acciaio resistente à u calore 1Crl8Ni9Ti, l'usu di a tecnulugia di deposizione assistita da fasciu ionicu per fà cresce un film sottile di SiN di 200 nm, ùn solu pò inibisce l'emergenza di crepe di fatica nantu à a superficia di u materiale, ma pò ancu riduce significativamente a velocità di diffusione di crepe di fatica, allargendu a so vita.

③ A deposizione assistita da fasciu di ioni pò cambià a natura di a tensione di u filmu è i cambiamenti di a so struttura cristallina. Per esempiu, a preparazione di u filmu Cr cù un bombardamentu di 11,5 keV Xe+ o Ar+ di a superficia di u sustratu, hà trovu chì l'aghjustamentu di a temperatura di u sustratu, l'energia ionica di u bombardamentu, u rapportu d'arrivu di ioni è atomi è altri parametri, pò fà chì a tensione passi da a tensione di trazione à a tensione di compressione, a struttura cristallina di u filmu pruducerà ancu cambiamenti. Sottu un certu rapportu di ioni à atomi, a deposizione assistita da fasciu di ioni hà una megliu orientazione selettiva chè u stratu di membrana depositatu per deposizione di vapore termicu.

④ A deposizione assistita da un fasciu di ioni pò migliurà a resistenza à a corrosione è a resistenza à l'ossidazione di a membrana. Siccomu a deposizione assistita da un fasciu di ioni di u stratu di membrana hè densa, a struttura di l'interfaccia di basa di a membrana migliora o a furmazione di un statu amorfu causata da a sparizione di u cunfine di granu trà e particelle, ciò chì hè favurevule à u miglioramentu di a resistenza à a corrosione è a resistenza à l'ossidazione di u materiale.

Migliurà a resistenza à a corrosione di u materiale è resiste à l'effettu ossidante di l'alta temperatura.

(5) A deposizione assistita da fasciu ionicu pò cambià e proprietà elettromagnetiche di u film è migliurà e prestazioni di i film sottili ottici. (6) A deposizione assistita da ioni permette a crescita di diversi film sottili à basse temperature è evita l'effetti avversi nantu à i materiali o e parti di precisione chì serianu causati da u trattamentu à alte temperature, postu chì i parametri relativi à a deposizione atomica è l'impiantu ionicu ponu esse aghjustati accuratamente è indipindentamente, è i rivestimenti di pochi micrometri cù una cumpusizione consistente ponu esse generati continuamente à basse energie di bombardamentu.