Kung itandi sa evaporation plating ug sputtering plating, ang labing importante nga bahin sa ion plating mao nga ang mga abtik nga ion nagbomba sa substrate ug sa film layer samtang ang deposition mahitabo. Ang pagpamomba sa gisakyan nga mga ion nagpatunghag sunodsunod nga mga epekto, kasagaran sa mosunod.
① Membrane / base bonding force (adhesion) lig-on, ang layer sa pelikula dili sayon mahulog tungod sa pagpamomba sa ion sa substrate nga namugna sa sputtering effect, aron ang substrate malimpyohan, ma-activate ug mapainit, dili lamang aron makuha ang adsorption sa gas sa ibabaw sa substrate ug ang kontaminado nga layer sa substrate, kondili aron usab makuha ang oxide sa ibabaw. Ang pagpamomba sa Ion sa pagpainit ug mga depekto mahimong tungod sa gipauswag nga epekto sa pagsabwag sa substrate, aron mapaayo ang kristal nga mga kabtangan sa organisasyon sa substrate ibabaw nga layer, apan naghatag usab mga kondisyon alang sa pagporma sa mga hugna sa haluang metal; ug mas taas nga enerhiya ion bombardment, apan usab og usa ka piho nga kantidad sa ion implantation ug ion beam pagsagol epekto.
② Ion taklap tungod sa paghimo sa maayo nga bypassing radiation sa kaso sa mas taas nga pressure (labaw pa kay sa o katumbas sa 1Pa) mao ang ionized alisngaw ions o molekula sa iyang panaw ngadto sa substrate sa atubangan sa mga molekula sa gas makasugat sa usa ka gidaghanon sa mga bangga, mao nga ang mga partikulo sa pelikula mahimong magkatibulaag sa palibot sa substrate, sa ingon pagpalambo sa coverage sa pelikula layer; ug ang mga partikulo sa ionized nga pelikula usab ibutang ubos sa aksyon sa electric field sa ibabaw sa substrate nga adunay negatibo nga boltahe Ang bisan unsang posisyon sa ibabaw sa substrate nga adunay negatibo nga boltahe, nga dili makab-ot pinaagi sa evaporation plating.
–Kini nga artikulo gipagawas nivacuum coating machine manufacturerGuangdong Zhenhua
Oras sa pag-post: Ene-12-2024