U poređenju sa isparavanjem i raspršivanjem, najvažnija karakteristika jonskog nanošenja je da energetski joni bombarduju podlogu i sloj filma dok se odvija taloženje. Bombardovanje naelektrisanim jonima proizvodi niz efekata, uglavnom sljedećih.
① Sila vezivanja (adhezije) membrane/baze je jaka, sloj filma se ne odvaja lako zbog bombardovanja supstrata ionima koje nastaje usljed efekta raspršivanja. Na taj način se supstrat čisti, aktivira i zagrijava, ne samo da bi se uklonila adsorpcija plina na površini supstrata i kontaminiranog sloja, već i da bi se uklonili oksidi s površine supstrata. Bombardovanje ionima usljed zagrijavanja i defekti mogu biti uzrokovani pojačanim efektom difuzije supstrata, kako bi se poboljšala kristalna svojstva organizacije površinskog sloja supstrata, tako i da bi se obezbijedili uslovi za formiranje legiranih faza; bombardovanje ionima veće energije također proizvodi određenu količinu implantacije iona i efekta miješanja ionskog snopa.
② Ionski premaz stvara dobro zaobilazno zračenje u slučaju višeg pritiska (većeg ili jednakog 1 Pa) koji ionizira ione ili molekule pare na svom putu do podloge prije nego što molekule plina naiđu na brojne sudare, tako da se čestice filma mogu raspršiti po podlozi, čime se poboljšava pokrivenost sloja filma; a ionizirane čestice filma će se također taložiti pod djelovanjem električnog polja na površini podloge s negativnim naponom u bilo kojem položaju na površini podloge s negativnim naponom, što se ne može postići isparavanjem.
–Ovaj članak je objavljen od straneproizvođač mašina za vakuumsko premazivanjeGuangdong Zhenhua
Vrijeme objave: 12. januar 2024.