① আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন প্রযুক্তি ফিল্ম এবং সাবস্ট্রেটের মধ্যে শক্তিশালী আনুগত্য দ্বারা চিহ্নিত করা হয়, ফিল্ম স্তরটি খুব শক্তিশালী। পরীক্ষায় দেখা গেছে যে: আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন তাপীয় বাষ্প জমার আনুগত্যের তুলনায় কয়েকগুণ বৃদ্ধি পেয়ে শতগুণ বৃদ্ধি পেয়েছে, কারণটি মূলত পরিষ্কারের প্রভাবের পৃষ্ঠের উপর আয়ন বোমাবর্ষণের কারণে, যাতে ঝিল্লির বেস ইন্টারফেস একটি গ্রেডিয়েন্ট ইন্টারফেসিয়াল কাঠামো, বা হাইব্রিড ট্রানজিশন স্তর তৈরি করে, পাশাপাশি ঝিল্লির চাপ কমায়।
② আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন ফিল্মের যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য উন্নত করতে পারে, ক্লান্তির আয়ু বাড়াতে পারে, যা অক্সাইড, কার্বাইড, কিউবিক BN, TiB: এবং হীরার মতো আবরণ তৈরির জন্য খুবই উপযুক্ত। উদাহরণস্বরূপ, 1Crl8Ni9Ti তাপ-প্রতিরোধী ইস্পাতে আয়ন বিম-অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন প্রযুক্তি ব্যবহার করে 200nm SiN, পাতলা ফিল্ম তৈরি করা হয়, যা কেবল উপাদানের পৃষ্ঠে ক্লান্তি ফাটলের উত্থানকে বাধা দিতে পারে না, বরং ক্লান্তি ফাটলের বিস্তারের হার উল্লেখযোগ্যভাবে হ্রাস করতে পারে, এর আয়ু বাড়ানোর জন্য একটি ভাল ভূমিকা পালন করে।
③ আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন ফিল্মের স্ট্রেস প্রকৃতি এবং এর স্ফটিক কাঠামো পরিবর্তন করতে পারে। উদাহরণস্বরূপ, সাবস্ট্রেট পৃষ্ঠের 11.5keV Xe + বা Ar + বোমাবর্ষণ সহ Cr ফিল্ম প্রস্তুত করার সময় দেখা গেছে যে সাবস্ট্রেট তাপমাত্রা, বোমাবর্ষণ আয়ন শক্তি, আয়ন এবং পরমাণুর আগমন অনুপাত এবং অন্যান্য পরামিতিগুলির সমন্বয় স্ট্রেসকে টেনসিল থেকে কম্প্রেসিভ স্ট্রেসে পরিণত করতে পারে, ফিল্মের স্ফটিক কাঠামোও পরিবর্তন আনবে। আয়ন এবং পরমাণুর একটি নির্দিষ্ট অনুপাতের অধীনে, আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন তাপীয় বাষ্প জমা দ্বারা জমা হওয়া ঝিল্লি স্তরের তুলনায় ভাল নির্বাচনী অভিযোজন ধারণ করে।
④ আয়ন রশ্মি সহায়িত জমা ঝিল্লির ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি করতে পারে। ঝিল্লি স্তরের আয়ন রশ্মি সহায়িত জমা ঘন হওয়ায়, ঝিল্লির ভিত্তি ইন্টারফেস কাঠামোর উন্নতি হয় বা কণার মধ্যে শস্য সীমানা অদৃশ্য হওয়ার ফলে নিরাকার অবস্থা তৈরি হয়, যা উপাদানের ক্ষয় প্রতিরোধ ক্ষমতা এবং জারণ প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধির জন্য সহায়ক।
উপাদানের জারা প্রতিরোধ ক্ষমতা বৃদ্ধি করুন এবং উচ্চ তাপমাত্রার জারণ প্রভাব প্রতিরোধ করুন।
(৫) আয়ন বিম অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন ফিল্মের ইলেক্ট্রোম্যাগনেটিক বৈশিষ্ট্য পরিবর্তন করতে পারে এবং অপটিক্যাল থিন ফিল্মের কর্মক্ষমতা উন্নত করতে পারে। (৬) আয়ন-অ্যাসিস্টেড ডিপোজিশন কম তাপমাত্রায় বিভিন্ন পাতলা ফিল্মের বৃদ্ধির অনুমতি দেয় এবং উচ্চ তাপমাত্রায় চিকিত্সার ফলে সৃষ্ট উপকরণ বা নির্ভুল অংশের উপর প্রতিকূল প্রভাব এড়ায়, কারণ পারমাণবিক ডিপোজিশন এবং আয়ন ইমপ্লান্টেশন সম্পর্কিত পরামিতিগুলি সঠিকভাবে এবং স্বাধীনভাবে সামঞ্জস্য করা যেতে পারে এবং সামঞ্জস্যপূর্ণ রচনা সহ কয়েকটি মাইক্রোমিটারের আবরণ কম বোমাবর্ষণ শক্তিতে ক্রমাগত তৈরি করা যেতে পারে।
পোস্টের সময়: মার্চ-০৭-২০২৪