In vergelyking met verdampingsplatering en verstuiwingsplatering, is die belangrikste kenmerk van ioonplatering dat die energieke ione die substraat en die filmlaag bombardeer terwyl afsetting plaasvind. Die bombardement van gelaaide ione produseer 'n reeks effekte, hoofsaaklik soos volg.
① Die membraan/basis bindingskrag (adhesie) is sterk, en die filmlaag val nie maklik af as gevolg van die ioonbombardement van die substraat wat deur die sputtereffek gegenereer word nie. Dit maak die substraat skoon, geaktiveer en verhit, wat nie net die adsorpsie van gas op die substraatoppervlak en die besmette laag verwyder nie, maar ook die oksiede van die substraatoppervlak verwyder. Verhitting en defekte van ioonbombardement kan veroorsaak word deur die verbeterde diffusie-effek van die substraat. Dit verbeter beide die kristallyne eienskappe van die substraatoppervlaklaagorganisasie en bied ook die voorwaardes vir die vorming van legeringsfases; en ioonbombardement met hoër energie produseer ook 'n sekere mate van iooninplanting en ioonbundelmeng-effek.
② Ioonbedekking produseer goeie omleidingsstraling in die geval van hoër druk (groter as of gelyk aan 1 Pa). Geïoniseerde dampione of -molekules op hul reis na die substraat sal 'n aantal botsings teëkom voordat die gasmolekules teëkom, sodat die filmdeeltjies rondom die substraat versprei kan word, wat die bedekking van die filmlaag verbeter; en die geïoniseerde filmdeeltjies sal ook onder die werking van die elektriese veld op die oppervlak van die substraat met negatiewe spanning neergelê word. Enige posisie op die oppervlak van die substraat met negatiewe spanning kan nie deur verdampingplaat bereik word nie.
–Hierdie artikel word vrygestel deurvervaardiger van vakuumbedekkingsmasjieneGuangdong Zhenhua
Plasingstyd: 12 Januarie 2024