イオンビームアシスト蒸着と低エネルギーイオン源

1.イオンビームアシスト蒸着は、主に低エネルギーイオンビームを使用して材料の表面改質を補助します。

（１）イオンアシスト蒸着の特性

コーティング工程中、堆積された膜粒子は、基板表面上のイオン源からの荷電イオンによって連続的に衝撃を受けながら、荷電イオンビームによってコーティングされる。

（２）イオンアシスト蒸着の役割

高エネルギーイオンが、緩く結合した膜粒子にいつでも衝突します。エネルギーを伝達することで、堆積した粒子はより大きな運動エネルギーを獲得し、核生成と成長の法則を改善します。いつでも膜組織に圧縮効果をもたらし、膜をより密に成長させます。反応性ガスイオンを注入すると、材料の表面に化学量論的化合物層が形成され、化合物層と基板の間には界面がありません。

2. イオンビームアシスト蒸着用イオン源

イオンビームアシスト成膜の特徴は、基板表面上のイオン源から放出される低エネルギーイオンによって成膜層原子（成膜粒子）が連続的に照射されることで、膜構造が非常に緻密になり、成膜層の性能が向上する点です。イオンビームのエネルギーEは500eV以下です。一般的に使用されるイオン源には、カウフマンイオン源、ホールイオン源、陽極層イオン源、中空陰極ホールイオン源、高周波イオン源などがあります。