१. आयन बीम असिस्टेड डिपॉझिशनमध्ये प्रामुख्याने पदार्थांच्या पृष्ठभागाच्या सुधारणेसाठी कमी ऊर्जेच्या आयन बीमचा वापर केला जातो.
(1) आयन-सहाय्यित निक्षेपणाची वैशिष्ट्ये
कोटिंग प्रक्रियेदरम्यान, चार्ज्ड आयन बीमने लेपन होत असताना, सबस्ट्रेटच्या पृष्ठभागावरील जमा झालेल्या फिल्मच्या कणांवर आयन सोर्समधून येणाऱ्या चार्ज्ड आयनद्वारे सतत मारा केला जातो.
(2) आयन-सहाय्यित निक्षेपणाची भूमिका
उच्च ऊर्जेचे आयन कोणत्याही वेळी सैलपणे बांधलेल्या फिल्मच्या कणांवर आदळतात; ऊर्जा हस्तांतरित केल्याने, जमा झालेल्या कणांना अधिक गतिज ऊर्जा मिळते, ज्यामुळे केंद्रकनिर्मिती आणि वाढीचा नियम सुधारतो; कोणत्याही वेळी पडद्याच्या ऊतींवर संकोचन प्रभाव निर्माण होतो, ज्यामुळे फिल्म अधिक दाटपणे वाढते; जर प्रतिक्रियाशील वायू आयन आत सोडले, तर पदार्थाच्या पृष्ठभागावर एक स्टॉइकिओमेट्रिक संयुगाचा थर तयार होऊ शकतो आणि संयुगाचा थर व आधारस्तर यांच्यामध्ये कोणताही आंतरपृष्ठ राहत नाही.
२. आयन बीम सहाय्यित निक्षेपणासाठी आयन स्रोत
आयन बीम सहाय्यित निक्षेपणाचे वैशिष्ट्य हे आहे की, सबस्ट्रेटच्या पृष्ठभागावरील फिल्म लेयरच्या अणूंवर (निक्षेपण कणांवर) आयन स्रोतामधून येणाऱ्या कमी ऊर्जेच्या आयनांचा सतत मारा केला जातो, ज्यामुळे फिल्मची रचना खूप दाट होते आणि फिल्म लेयरची कार्यक्षमता सुधारते. आयन बीमची ऊर्जा E ही ≤ 500eV असते. सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या आयन स्रोतांमध्ये यांचा समावेश होतो: कॉफमन आयन स्रोत, हॉल आयन स्रोत, ॲनोड लेयर आयन स्रोत, हॉलो कॅथोड हॉल आयन स्रोत, रेडिओ फ्रिक्वेन्सी आयन स्रोत, इत्यादी.
पोस्ट करण्याची वेळ: ३० जून २०२३