1. 이온빔 보조 증착은 주로 저에너지 이온빔을 이용하여 재료의 표면 개질을 돕는 기술입니다.
(1) 이온 보조 증착의 특성
코팅 공정 동안, 증착된 박막 입자는 하전 이온 빔으로 코팅되는 동시에 기판 표면의 이온 소스에서 나오는 하전 이온에 의해 지속적으로 충격을 받습니다.
(2) 이온 보조 증착의 역할
고에너지 이온이 언제든지 느슨하게 결합된 필름 입자를 충격합니다. 에너지 전달을 통해 증착된 입자는 더 큰 운동 에너지를 얻게 되어 핵 생성 및 성장 법칙이 향상됩니다. 또한 언제든지 막 조직에 압축 효과를 발생시켜 필름이 더욱 조밀하게 성장하도록 합니다. 반응성 기체 이온을 주입하면 재료 표면에 화학양론적 화합물 층이 형성될 수 있으며, 화합물 층과 기판 사이에 계면이 존재하지 않습니다.
2. 이온빔 보조 증착용 이온 소스
이온빔 보조 증착의 특징은 기판 표면의 이온 소스에서 나오는 저에너지 이온이 박막 원자(증착 입자)를 지속적으로 충격하여 박막 구조를 매우 치밀하게 만들고 박막의 성능을 향상시키는 것입니다. 이온빔의 에너지 E는 500eV 이하입니다. 일반적으로 사용되는 이온 소스로는 카우프만 이온 소스, 홀 이온 소스, 양극층 이온 소스, 중공 음극 홀 이온 소스, 고주파 이온 소스 등이 있습니다.
게시 시간: 2023년 6월 30일