1. Iduro iranlọwọ ti ion beam lo awọn ion beam agbara kekere lati ṣe iranlọwọ ni iyipada dada ti awọn ohun elo.
(1) Àwọn ànímọ́ ìfipamọ́ ion tí a ṣe ìrànlọ́wọ́ fún
Nígbà tí a bá ń fi ìbòrí bo àwọn èròjà fíìmù tí a kó pamọ́, àwọn ion tí a ti gba agbára láti orísun ion lórí ojú ilẹ̀ náà máa ń bò wọ́n nígbà gbogbo, nígbà tí wọ́n bá ń fi àwọn ion tí a ti gba agbára bò wọ́n.
(2) Ipa ti ifisilẹ iranlọwọ ion
Àwọn ion agbára gíga máa ń bo àwọn pátákó fíìmù tí a so mọ́ra láìsí ìdènà nígbàkigbà; Nípa gbígbé agbára, àwọn pátákó tí a kó pamọ́ máa ń ní agbára ìdènà púpọ̀ sí i, nípa bẹ́ẹ̀ wọ́n máa ń mú kí òfin nucleation àti ìdàgbàsókè sunwọ̀n sí i; Wọ́n máa ń mú kí ìtẹ̀síwájú pọ̀ sí i lórí àsopọ̀ awọ ara nígbàkigbà, èyí sì máa ń mú kí fíìmù náà dàgbà sí i; Tí a bá fún àwọn ion gaasi tí ń ṣiṣẹ́, a lè ṣẹ̀dá stoichiometric compound Layer lórí ojú ohun èlò náà, kò sì sí ìbáṣepọ̀ láàárín compound Layer àti substrate náà.
2. Orísun ion fún ìfipamọ́ ion tí a ran lọ́wọ́
Ànímọ́ ìdúróṣinṣin ion beam tí a ràn lọ́wọ́ ni pé àwọn ion agbára díẹ̀ láti orísun ion lórí ojú ilẹ̀ substrate máa ń bo àwọn átọ̀mù fẹlẹfẹlẹ fíìmù (àwọn èròjà ìdènà) nígbà gbogbo, èyí sì máa ń mú kí ìṣètò fíìmù náà nípọn púpọ̀, ó sì ń mú kí iṣẹ́ fíìmù náà sunwọ̀n sí i. Agbára E ti ion beam jẹ́ ≤ 500eV. Àwọn orísun ion tí a sábà máa ń lò ni: orísun ion Kauffman, orísun ion Hall, orísun ion anode, cathode hollow source Hall ion, orísun ion igbohunsafẹfẹ redio, àti bẹ́ẹ̀ bẹ́ẹ̀ lọ.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù Kẹfà-30-2023