イオンビーム支援蒸着と低エネルギーイオン源

1.イオンビーム支援蒸着法では、主に低エネルギーイオンビームを使用して材料の表面改質を支援します。

（１）イオンアシスト堆積の特徴

コーティングプロセス中、堆積されたフィルム粒子は、荷電イオンビームでコーティングされながら、基板表面のイオン源からの荷電イオンによって連続的に衝撃されます。

（２）イオンアシスト堆積の役割

高エネルギーイオンが、緩く結合した膜粒子を随時衝撃します。エネルギーを伝達することで、堆積した粒子はより大きな運動エネルギーを獲得し、それによって核形成と成長の法則が改善されます。膜組織に随時圧縮効果を生み出し、膜をより高密度に成長させます。反応性ガスイオンを注入すると、材料の表面に化学量論的化合物層を形成でき、化合物層と基板の間に界面は存在しません。

2. イオンビーム支援蒸着用イオン源

イオンビームアシスト蒸着の特徴は、基板表面のイオン源から発生する低エネルギーイオンが薄膜層原子（蒸着粒子）に連続的に照射されることで、薄膜構造が極めて緻密になり、薄膜層の性能が向上することです。イオンビームのエネルギーEは500eV以下です。一般的に使用されるイオン源には、カウフマンイオン源、ホールイオン源、陽極層イオン源、ホローカソードホールイオン源、高周波イオン源などがあります。