(1) שפּריצן גאַז. דער שפּריצן גאַז זאָל האָבן די אייגנשאַפֿטן פֿון הויך שפּריצן פּראָדוקציע, אינערט צום ציל מאַטעריאַל, ביליק, גרינג צו באַקומען הויך ריינקייט און אַנדערע אייגנשאַפֿטן. בכלל גערעדט, אַרגאָן איז דער מער אידעאַלער שפּריצן גאַז.
(2) שפּריצן וואָולטאַזש און סאַבסטראַט וואָולטאַזש. די צוויי פּאַראַמעטערס האָבן אַ וויכטיקע השפּעה אויף די קעראַקטעריסטיקס פון דעם פילם, שפּריצן וואָולטאַזש ניט בלויז אַפעקטירט די דעפּאָזיציע קורס, אָבער אויך ערנסט אַפעקטירט די סטרוקטור פון די דעפּאָזיציע פילם. סאַבסטראַט פּאָטענציעל אַפעקטירט גלייך דעם עלעקטראָן אָדער יאָן לויפן פון מענטש ינדזשעקשאַן. אויב דער סאַבסטראַט איז גראַונדעד, עס איז באָמבאַרדירט דורך עקוויוואַלענט עלעקטראָנען; אויב דער סאַבסטראַט איז סוספּענדעד, עס איז אין די גלאָו דיסטשאַרדזש געגנט צו באַקומען אַ קליין נעגאַטיוו פּאָטענציעל רעלאַטיוו צו דער ערד פון די סאַספּענשאַן פּאָטענציעל V1, און די פּאָטענציעל פון די פּלאַזמע אַרום די סאַבסטראַט V2 צו זיין העכער ווי די סאַבסטראַט פּאָטענציעל, וואָס וועט געבן העכערונג צו אַ זיכער גראַד פון באָמבאַרדירן פון עלעקטראָנען און positive יאָנען, ריזאַלטינג אין ענדערונגען אין די פילם גרעב, קאַמפּאַזישאַן, און אנדערע קעראַקטעריסטיקס: אויב די סאַבסטראַט געווענדט בייאַס וואָולטאַזש, אַזוי אַז עס איז אין לויט מיט די פּאָלאַריטי פון די עלעקטרישע אַקסעפּטאַנס פון עלעקטראָנען אָדער יאָנען, ניט בלויז קענען רייניקן די סאַבסטראַט און פֿאַרבעסערן די אַדכיזשאַן פון די פילם, אָבער אויך טוישן די סטרוקטור פון די פילם. אין די ראַדיאָ אָפטקייַט שפּריצן קאָוטינג, די צוגרייטונג פון קאַנדאַקטאָר מעמבראַנע פּלוס DC בייאַס: די צוגרייטונג פון דיעלעקטריק מעמבראַנע פּלוס טונינג בייאַס.
(3) סאַבסטראַט טעמפּעראַטור. סאַבסטראַט טעמפּעראַטור האט אַ גרעסערן השפּעה אויף די אינערלעכע דרוק פון די פילם, וואָס איז רעכט צו דעם אַז די טעמפּעראַטור אַפעקטירט גלייך די טעטיקייט פון די דעפּאָנירט אַטאָמען אויף די סאַבסטראַט, אַזוי באַשטימענדיק די זאַץ פון די פילם, סטרוקטור, דורכשניטלעך קערל גרייס, קריסטאַל אָריענטירונג און אומפאַרענדיקונג.
–דער אַרטיקל איז ארויסגעגעבן דורךוואַקוום קאָוטינג מאַשין פאַבריקאַנטגואַנגדאָנג זשענהואַ
פּאָסט צייט: יאַנואַר-05-2024