(1) Khí phun. Khí phun phải có đặc điểm là hiệu suất phun cao, trơ với vật liệu mục tiêu, giá rẻ, dễ có độ tinh khiết cao và các đặc điểm khác. Nói chung, argon là khí phun lý tưởng hơn.
(2) Điện áp phun và điện áp nền. Hai thông số này có tác động quan trọng đến các đặc tính của màng, điện áp phun không chỉ ảnh hưởng đến tốc độ lắng đọng mà còn ảnh hưởng nghiêm trọng đến cấu trúc của màng lắng đọng. Điện thế nền ảnh hưởng trực tiếp đến dòng electron hoặc ion khi tiêm vào người. Nếu nền được nối đất, nó sẽ bị bắn phá bởi các electron tương đương; nếu nền được treo, nó nằm trong vùng phóng điện phát sáng để có được điện thế hơi âm so với mặt đất của điện thế treo V1 và điện thế của plasma xung quanh nền V2 cao hơn điện thế nền, điều này sẽ tạo ra một mức độ bắn phá electron và ion dương nhất định, dẫn đến thay đổi độ dày, thành phần và các đặc tính khác của màng: nếu nền cố tình áp dụng điện áp phân cực, sao cho phù hợp với cực tính của sự chấp nhận điện của electron hoặc ion, không chỉ có thể làm sạch nền và tăng cường độ bám dính của màng mà còn thay đổi cấu trúc của màng. Trong lớp phủ phun tần số vô tuyến, việc chuẩn bị màng dẫn cộng với độ lệch DC: việc chuẩn bị màng điện môi cộng với độ lệch điều chỉnh.
(3) Nhiệt độ của chất nền. Nhiệt độ của chất nền có tác động lớn hơn đến ứng suất bên trong của màng, do nhiệt độ ảnh hưởng trực tiếp đến hoạt động của các nguyên tử lắng đọng trên chất nền, do đó quyết định thành phần của màng, cấu trúc, kích thước hạt trung bình, hướng tinh thể và độ không hoàn chỉnh.
– Bài viết này được phát hành bởinhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng: 05-01-2024