Металоорганічне хімічне осадження з парової фази (MOCVD), джерелом газоподібного матеріалу є газоподібна металоорганічна сполука, а основний реакційний процес осадження подібний до CVD.
1. Неочищений газ, отриманий методом MOCVD
Джерелом газу, що використовується для MOCVD, є металоорганічна сполука (MOC). Металоорганічні сполуки – це стабільні сполуки, що утворюються шляхом поєднання органічних речовин з металами. Органічні сполуки мають алкільні та ароматичні групи. Алкільні групи включають метил, етил, пропіл та бутил. Алкільні групи включають метил, етил, пропіл та бутил. Ароматичні групи включають фенільні гомологи, триметилгалій, [Ga(CH3)3], триметилалюміній [Al(CH3)3] для осадження мікроелектроніки, оптоелектроніки, напівпровідників у трьох, п'яти сполуках у плівковому шарі, таких як Ga(CH3)3 а аміак може бути присутнім у кремнієвій пластині або сапфірі при епітаксіальному зростанні світлодіодних ламп у люмінесцентному шарі InGaN. Світлодіодні лампи економлять більше енергії, ніж вольфрамові лампи розжарювання, на 90%, а люмінесцентні лампи – понад 60%. Світлодіодні лампи на 90% енергоефективніші, ніж вольфрамові лампи розжарювання, та на 60% енергоефективніші, ніж люмінесцентні лампи. Сьогодні всі види вуличних ліхтарів, ламп освітлення та автомобільних ламп в основному використовують світлодіодні плівки, вироблені MOCVD.
2. Температура осадження
Температура розкладання органічних металоорганічних сполук низька, а температура осадження нижча, ніж у методі HCVD. Температуру осадження TiN, осадженого методом MOCVD, можна знизити приблизно до 500 градусів.
–Цю статтю опубліковановиробник вакуумних машин для покриттяГуандун Чженьхуа
Час публікації: 20 жовтня 2023 р.