(1) Püskürtme gazı. Püskürtme gazı, yüksek püskürtme verimi, hedef malzemeye karşı inert, ucuz, elde edilmesi kolay yüksek saflık ve diğer özelliklere sahip olmalıdır. Genel olarak konuşursak, argon daha ideal püskürtme gazıdır.
(2) Püskürtme voltajı ve alt tabaka voltajı. Bu iki parametrenin filmin özellikleri üzerinde önemli bir etkisi vardır, püskürtme voltajı sadece biriktirme hızını etkilemekle kalmaz, aynı zamanda biriktirilen filmin yapısını da ciddi şekilde etkiler. Alt tabaka potansiyeli, insan enjeksiyonunun elektron veya iyon akışını doğrudan etkiler. Alt tabaka topraklanmışsa, eşdeğer elektronlar tarafından bombardıman edilir; alt tabaka askıya alınmışsa, süspansiyon potansiyeli V1'in zeminine göre hafif negatif bir potansiyel elde etmek için kızdırma deşarj alanındadır ve alt tabaka etrafındaki plazmanın potansiyeli V2, alt tabaka potansiyelinden daha yüksek olur, bu da belirli bir derecede elektron ve pozitif iyon bombardımanına yol açacaktır. Bu, film kalınlığında, bileşiminde ve diğer özelliklerinde değişikliklere neden olur: alt tabaka kasıtlı olarak önyargı voltajı uygulandıysa, böylece elektronların veya iyonların elektriksel kabulünün polaritesine uygun olur, sadece alt tabakayı arındırmak ve filmin yapışmasını artırmakla kalmaz, aynı zamanda filmin yapısını da değiştirebilir. Radyo frekanslı püskürtme kaplamada, iletken membran artı DC önyargısının hazırlanması: dielektrik membran artı ayar önyargısının hazırlanması.
(3) Alt tabaka sıcaklığı. Alt tabaka sıcaklığının, filmin iç gerilimi üzerinde daha büyük bir etkisi vardır; bu, sıcaklığın alt tabaka üzerinde biriken atomların aktivitesini doğrudan etkilemesi ve böylece filmin bileşimini, yapısını, ortalama tane boyutunu, kristal yönelimini ve eksikliğini belirlemesi nedeniyledir.
–Bu makale tarafından yayınlanmıştırvakum kaplama makinesi üreticisiGuangdong Zhenhua
Gönderi zamanı: 05-Oca-2024