(1) Гас за распршивање. Гас за распршивање треба да има карактеристике високог приноса распршивања, инертан је према материјалу циља, јефтин, лако се добија, има високу чистоћу и друге карактеристике. Генерално говорећи, аргон је идеалнији гас за распршивање.
(2) Напон распршивања и напон подлоге. Ова два параметра имају важан утицај на карактеристике филма, напон распршивања не само да утиче на брзину таложења, већ и озбиљно утиче на структуру наталоженог филма. Потенцијал подлоге директно утиче на проток електрона или јона у људском убризгавању. Ако је подлога уземљена, бомбардована је еквивалентним електронима; ако је подлога суспендована, у подручју жарног пражњења добија се благо негативан потенцијал у односу на земљу, потенцијал суспензије V1, а потенцијал плазме око подлоге V2 је виши од потенцијала подлоге, што ће довести до одређеног степена бомбардовања електронима и позитивним јонима, што резултира променама у дебљини филма, саставу и другим карактеристикама: ако се на подлогу намерно примени напон преднапона, тако да је у складу са поларитетом електричног прихватања електрона или јона, не само да се подлога може пречистити и побољшати приањање филма, већ се може променити и структура филма. Код радиофреквентног распршивања премаза, припрема проводне мембране плус једносмерна преднапона: припрема диелектричне мембране плус преднапона за подешавање.
(3) Температура подлоге. Температура подлоге има већи утицај на унутрашње напрезање филма, што је због тога што температура директно утиче на активност депонованих атома на подлози, чиме се одређује састав филма, структура, просечна величина зрна, оријентација кристала и непотпуност.
–Овај чланак је објављен од странепроизвођач машина за вакуумско премазивањеГуангдонг Зхенхуа
Време објаве: 05.01.2024.