(1) Sputtering kesi. O le gas sputtering e tatau ona i ai uiga o le maualuga sputtering fua, inert i le mea autu, taugofie, faigofie ona maua le mama maualuga ma isi uiga. I se tulaga lautele, o le argon o le kesi sili atu lea e fa'afefeteina.
(2) Sputtering voltage ma substrate voltage. O nei taʻiala e lua o loʻo i ai se aafiaga taua i uiga o le ata, o le sputtering voltage e le gata ina aʻafia ai le fua o le teuina, ae e matua afaina ai foi le fausaga o le ata na teuina. Ole malosi ole palapala e a'afia sa'o ai le eletise po'o le ion o le tui ole tagata. Afai e fa'avae le substrate, e osofa'ia e le eletise tutusa; pe afai e taofia le substrate, o loʻo i totonu o le eria o le susulu e maua ai se tulaga le lelei e fesoʻotaʻi ma le eleele o le V1 faʻamalolo, ma le gafatia o le plasma o loʻo siomia ai le substrate V2 e maualuga atu nai lo le malosi o le substrate, lea o le a mafua ai se tikeri o le pomuina o electrons ma ion lelei, e mafua ai suiga i le mafiafia o le ata, tuufaatasiga, ma isi uiga e faʻatatau i le faʻaogaina o le eletise ma isi uiga: le taliaina o le eletise o electrons po o ions, e le gata e mafai ona faamamaina le substrate ma faʻaleleia le faʻapipiʻiina o le ata, ae suia foi le fausaga o le ata. I le leitio faʻapipiʻi faʻapipiʻi faʻapipiʻi, o le sauniuniga o le paʻu taʻavale faʻatasi ai ma le faʻaituau DC: o le sauniuniga o le dielectric membrane faʻatasi ai ma le faʻaituau faʻalogo.
(3) O le vevela o le eleele. O le vevela o le substrate o loʻo i ai se aafiaga sili atu i luga o le faʻalavelave i totonu o le ata, lea e mafua ona o le vevela e aʻafia ai le gaioiga o mea na teuina i luga o le substrate, ma faʻamaonia ai le tuufaatasiga o le ata, fausaga, fualaʻau fua tele, faʻataʻitaʻiga tioata ma le le atoatoa.
–O lenei tusiga ua tatalaina emasini fa'apipi'i gaogao gaosimeaGuangdong Zhenhua
Taimi meli: Ian-05-2024