(1) Razpršilni plin. Razpršilni plin mora imeti značilnosti visokega izkoristka razprševanja, inertnosti do ciljnega materiala, nizke cene, enostavne pridobitve, visoke čistosti in druge lastnosti. Na splošno je argon najbolj idealen razpršilni plin.
(2) Napetost razprševanja in napetost substrata. Ta dva parametra pomembno vplivata na značilnosti filma, napetost razprševanja ne vpliva le na hitrost nanašanja, temveč tudi na strukturo nanesenega filma. Potencial substrata neposredno vpliva na pretok elektronov ali ionov pri človeški injekciji. Če je substrat ozemljen, ga bombardirajo enakovredni elektroni; če je substrat suspendiran, se v območju žarilnega praznjenja ustvari rahlo negativen potencial suspenzijskega potenciala V1 glede na ozemljitev, potencial plazme okoli substrata V2 pa je višji od potenciala substrata, kar povzroči določeno stopnjo bombardiranja z elektroni in pozitivnimi ioni, kar povzroči spremembe v debelini, sestavi in drugih značilnostih filma: če se na substrat namensko uporabi napetost prednapetosti, ki ustreza polarnosti električnega sprejema elektronov ali ionov, se ne le očisti substrata in izboljša oprijem filma, temveč se spremeni tudi struktura filma. Pri radiofrekvenčnem razprševanju se priprava prevodne membrane in enosmerna prednapetost nadaljujeta z pripravo dielektrične membrane in uglaševanjem prednapetosti.
(3) Temperatura substrata. Temperatura substrata ima večji vpliv na notranjo napetost filma, kar je posledica neposrednega vpliva temperature na aktivnost nanesenih atomov na substratu, s čimer določa sestavo filma, strukturo, povprečno velikost zrn, orientacijo kristalov in nepopolnost.
–Ta članek je objavilproizvajalec strojev za vakuumsko lakiranjeGuangdong Zhenhua
Čas objave: 05.01.2024