Pri chemickom nanášaní z pár kovových organických zlúčenín (MOCVD) je zdrojom plynného materiálu plyn z kovových organických zlúčenín a základný reakčný proces nanášania je podobný ako pri CVD.
1. Surový plyn získaný metódou MOCVD
Plynným zdrojom používaným pre MOCVD je plyn na báze organokovových zlúčenín (MOC). Organokovové zlúčeniny sú stabilné zlúčeniny vyrobené kombináciou organických látok s kovmi. Organické zlúčeniny majú alkylové a aromatické skupiny. Medzi alkylové skupiny patrí metyl, etyl, propyl a butyl. Medzi alkylové skupiny patrí metyl, etyl, propyl a butyl. Aromatické zlúčeniny zahŕňajú fenylové homológy, trimetylgálium, [Ga(CH3)3], trimetylalumínium [Al(CH3)3] na nanášanie mikroelektroniky, optoelektroniky, polovodičov v troch, piatich zlúčeninách vo vrstve filmu, ako napríklad Ga(CH3)3 a amoniak môže byť prítomný v kremíkovej doštičke alebo zafíre pri epitaxnom raste LED žiaroviek v luminiscenčnej vrstve InGaN. LED žiarovky sú o 90 % energeticky úspornejšie ako volfrámové žiarovky a o 60 % úspornejšie ako žiarivky. LED žiarovky sú o 90 % energeticky úspornejšie ako volfrámové žiarovky a o 60 % energeticky úspornejšie ako žiarivky. V súčasnosti všetky druhy pouličných lámp, osvetľovacích lámp a automobilových lámp v podstate používajú LED filmy emitujúce svetlo vyrobené spoločnosťou MOCVD.
2. Teplota nanášania
Teplota rozkladu organických kovových zlúčenín je nízka a teplota nanášania je nižšia ako pri HCVD. Teplota nanášania TiN naneseného metódou MOCVD sa môže znížiť na približne 500 stupňov.
–Tento článok vydávavýrobca vákuových lakovacích strojovGuangdong Zhenhua
Čas uverejnenia: 20. októbra 2023