(1) Газ для распыления. Газ для распыления должен обладать характеристиками высокого выхода распыления, инертности к материалу мишени, дешевизны, легкости получения высокой чистоты и другими характеристиками. Вообще говоря, аргон является более идеальным газом для распыления.
(2) Напряжение распыления и напряжение подложки. Эти два параметра оказывают важное влияние на характеристики пленки, напряжение распыления не только влияет на скорость осаждения, но и серьезно влияет на структуру осажденной пленки. Потенциал подложки напрямую влияет на поток электронов или ионов человеческой инъекции. Если подложка заземлена, она бомбардируется эквивалентными электронами; если подложка подвешена, она находится в области тлеющего разряда, чтобы получить слегка отрицательный потенциал относительно земли потенциала подвески V1, а потенциал плазмы вокруг подложки V2 должен быть выше потенциала подложки, что приведет к определенной степени бомбардировки электронами и положительными ионами, что приведет к изменению толщины пленки, состава и других характеристик: если к подложке целенаправленно приложено напряжение смещения, так что оно находится в соответствии с полярностью электрического акцепта электронов или ионов, можно не только очистить подложку и улучшить адгезию пленки, но и изменить структуру пленки. При нанесении покрытия методом радиочастотного распыления подготовка проводящей мембраны плюс смещение постоянного тока: подготовка диэлектрической мембраны плюс смещение настройки.
(3) Температура подложки. Температура подложки оказывает большее влияние на внутреннее напряжение пленки, что обусловлено тем, что температура напрямую влияет на активность осаждаемых атомов на подложке, определяя тем самым состав пленки, структуру, средний размер зерна, ориентацию кристаллов и незавершенность.
–Эта статья опубликованапроизводитель вакуумных напылительных машинГуандун Чжэньхуа
Время публикации: 05.01.2024