A tecnologia de deposição química de vapor por plasma aprimorada por arco de arame quente utiliza o canhão de arco de arame quente para emitir plasma de arco, abreviado como tecnologia PECVD de arco de arame quente. Essa tecnologia é semelhante à tecnologia de revestimento iônico por canhão de arco de arame quente, mas a diferença é que o filme sólido obtido pelo revestimento iônico por canhão de arco de arame quente utiliza o fluxo de elétrons da luz de arco emitido pelo canhão de arco de arame quente para aquecer e evaporar o metal no cadinho, enquanto o PECVD de luz de arco de arame quente é alimentado com gases de reação, como CH4 e H2, que são usados para depositar filmes de diamante. Ao depender da corrente de descarga de arco de alta densidade emitida pelo canhão de arco de arame quente, os íons de gás reativo são excitados para obter várias partículas ativas, incluindo íons de gás, íons atômicos, grupos ativos e assim por diante.
No dispositivo PECVD de arco de fio quente, duas bobinas eletromagnéticas ainda são instaladas fora da sala de revestimento, fazendo com que o fluxo de elétrons de alta densidade gire durante o movimento em direção ao ânodo, aumentando a probabilidade de colisão e ionização entre o fluxo de elétrons e o gás de reação. A bobina eletromagnética também pode convergir para uma coluna de arco para aumentar a densidade do plasma de toda a câmara de deposição. No plasma de arco, a densidade dessas partículas ativas é alta, facilitando a deposição de filmes de diamante e outras camadas de filme na peça de trabalho.
——Este artigo foi publicado pela Guangdong Zhenhua Technology, umafabricante de máquinas de revestimento óptico.
Horário de publicação: 05/05/2023