Teknologien for kjemisk dampavsetning med varmtrådsbueforsterket plasma bruker varmtrådsbuepistol til å avgi bueplasma, forkortet som varmtrådsbue-PECVD-teknologi. Denne teknologien ligner på ionbeleggteknologien med varmtrådsbuepistol, men forskjellen er at den faste filmen som oppnås ved ionbelegg med varmtrådsbuepistol bruker elektronstrømmen fra buelyset som sendes ut av varmtrådsbuepistolen til å varme opp og fordampe metallet i digelen, mens varmtrådsbuelyset PECVD mates med reaksjonsgasser, som CH4 og H2, som brukes til avsetning av diamantfilmer. Ved å stole på den høydensitetsbueutladningsstrømmen som sendes ut av varmtrådsbuepistolen, eksiteres de reaktive gassionene for å danne forskjellige aktive partikler, inkludert gasioner, atomioner, aktive grupper og så videre.
I PECVD-enheten for varmtrådsbue er det fortsatt installert to elektromagnetiske spoler utenfor belegningsrommet, noe som får elektronstrømmen med høy tetthet til å rotere under bevegelsen mot anoden. Dette øker sannsynligheten for kollisjon og ionisering mellom elektronstrømmen og reaksjonsgassen. Den elektromagnetiske spolen kan også konvergere til en buekolonne for å øke plasmatettheten i hele avsetningskammeret. I bueplasma er tettheten til disse aktive partiklene høy, noe som gjør det enklere å avsette diamantfilmer og andre filmlag på arbeidsstykket.
——Denne artikkelen ble publisert av Guangdong Zhenhua Technology, enprodusent av optiske beleggmaskiner.
Publisert: 05. mai 2023