De hetedraadboog-versterkte plasma-CVD-technologie maakt gebruik van het hetedraadboogpistool om boogplasma uit te stralen, afgekort als de hetedraadboog PECVD-technologie. Deze technologie is vergelijkbaar met de ionencoatingtechnologie van het hetedraadboogpistool, maar het verschil is dat de vaste film die wordt verkregen door het hetedraadboogpistool de elektronenstroom van het booglicht van het hetedraadboogpistool gebruikt om het metaal in de smeltkroes te verhitten en te verdampen, terwijl het hetedraadbooglicht PECVD wordt gevoed met reactiegassen, zoals CH4 en H2, die worden gebruikt voor het afzetten van diamantfilms. Door gebruik te maken van de hogedichtheidsontladingsstroom van het hetedraadboogpistool, worden de reactieve gasionen geëxciteerd om diverse actieve deeltjes te verkrijgen, waaronder gasionen, atoomionen, actieve groepen, enzovoort.
In het PECVD-apparaat met hetedraadboog zijn nog steeds twee elektromagnetische spoelen buiten de coatingruimte geïnstalleerd, waardoor de elektronenstroom met hoge dichtheid roteert tijdens de beweging naar de anode. Dit vergroot de kans op botsing en ionisatie tussen de elektronenstroom en het reactiegas. De elektromagnetische spoel kan ook convergeren tot een boogkolom om de plasmadichtheid van de gehele depositiekamer te verhogen. In boogplasma is de dichtheid van deze actieve deeltjes hoog, waardoor het gemakkelijker wordt om diamantfilms en andere filmlagen op het werkstuk af te zetten.
——Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua Technology, eenfabrikant van optische coatingmachines.
Plaatsingstijd: 5 mei 2023