(१) स्पटरिङ ग्यास। स्पटरिङ ग्यासमा उच्च स्पटरिङ उपज, लक्षित सामग्रीमा निष्क्रिय, सस्तो, उच्च शुद्धता प्राप्त गर्न सजिलो र अन्य विशेषताहरू हुनुपर्छ। सामान्यतया, आर्गन अधिक आदर्श स्पटरिङ ग्यास हो।
(२) स्पटरिङ भोल्टेज र सब्सट्रेट भोल्टेज। यी दुई प्यारामिटरहरूले फिल्मको विशेषताहरूमा महत्त्वपूर्ण प्रभाव पार्छन्, स्पटरिङ भोल्टेजले निक्षेपण दरलाई मात्र असर गर्दैन, तर निक्षेपित फिल्मको संरचनालाई पनि गम्भीर रूपमा असर गर्छ। सब्सट्रेट सम्भाव्यताले मानव इंजेक्शनको इलेक्ट्रोन वा आयन प्रवाहलाई प्रत्यक्ष असर गर्छ। यदि सब्सट्रेट ग्राउन्ड गरिएको छ भने, यो बराबर इलेक्ट्रोनहरूद्वारा बमबारी गरिन्छ; यदि सब्सट्रेट निलम्बित छ भने, यो निलम्बन सम्भाव्यता V1 को जमिनको सापेक्षमा थोरै नकारात्मक सम्भाव्यता प्राप्त गर्न ग्लो डिस्चार्ज क्षेत्रमा हुन्छ, र सब्सट्रेट V2 वरिपरि प्लाज्माको सम्भाव्यता सब्सट्रेट सम्भाव्यता भन्दा बढी हुन्छ, जसले इलेक्ट्रोन र सकारात्मक आयनहरूको बमबारीलाई जन्म दिनेछ, जसको परिणामस्वरूप फिल्मको मोटाई, संरचना, र अन्य विशेषताहरूमा परिवर्तनहरू हुनेछन्: यदि सब्सट्रेटले उद्देश्यपूर्वक पूर्वाग्रह भोल्टेज लागू गर्यो भने, ताकि यो इलेक्ट्रोन वा आयनहरूको विद्युतीय स्वीकृतिको ध्रुवता अनुरूप होस्, सब्सट्रेटलाई शुद्ध पार्न र फिल्मको आसंजन बढाउन मात्र होइन, तर फिल्मको संरचना पनि परिवर्तन गर्न सक्छ। रेडियो फ्रिक्वेन्सी स्पटरिङ कोटिंगमा, कन्डक्टर झिल्ली प्लस डीसी पूर्वाग्रहको तयारी: डाइलेक्ट्रिक झिल्ली प्लस ट्युनिङ पूर्वाग्रहको तयारी।
(३) सब्सट्रेट तापक्रम। सब्सट्रेट तापक्रमले फिल्मको आन्तरिक तनावमा बढी प्रभाव पार्छ, जुन तापक्रमले सब्सट्रेटमा जम्मा भएका परमाणुहरूको गतिविधिलाई प्रत्यक्ष असर गर्ने भएकाले फिल्मको संरचना, संरचना, औसत अन्न आकार, क्रिस्टल अभिमुखीकरण र अपूर्णता निर्धारण हुन्छ।
- यो लेख प्रकाशित गरिएको होभ्याकुम कोटिंग मेसिन निर्मातागुआंग्डोंग Zhenhua
पोस्ट समय: जनवरी-०५-२०२४