(1) Gass tal-isputtering. Il-gass tal-isputtering għandu jkollu l-karatteristiċi ta' rendiment għoli tal-isputtering, inerti għall-materjal fil-mira, irħis, faċli biex tinkiseb purità għolja u karatteristiċi oħra. B'mod ġenerali, l-argon huwa l-gass tal-isputtering l-aktar ideali.
(2) Vultaġġ tal-isputtering u vultaġġ tas-sottostrat. Dawn iż-żewġ parametri għandhom impatt importanti fuq il-karatteristiċi tal-film, il-vultaġġ tal-isputtering mhux biss jaffettwa r-rata tad-depożizzjoni, iżda jaffettwa wkoll serjament l-istruttura tal-film depożitat. Il-potenzjal tas-sottostrat jaffettwa direttament il-fluss tal-elettroni jew tal-joni tal-injezzjoni umana. Jekk is-sottostrat ikun ertjat, jiġi bbumbardjat b'elettroni ekwivalenti; jekk is-sottostrat ikun sospiż, ikun fiż-żona ta' skarika tad-dawl biex jinkiseb potenzjal kemxejn negattiv relattiv għall-art tal-potenzjal tas-sospensjoni V1, u l-potenzjal tal-plażma madwar is-sottostrat V2 ikun ogħla mill-potenzjal tas-sottostrat, li se jagħti lok għal ċertu grad ta' bumbardament ta' elettroni u joni pożittivi, li jirriżulta f'bidliet fil-ħxuna tal-film, il-kompożizzjoni, u karatteristiċi oħra: jekk is-sottostrat japplika vultaġġ ta' polarizzazzjoni apposta, sabiex ikun skont il-polarità tal-aċċettazzjoni elettrika ta' elettroni jew joni, mhux biss jista' jippurifika s-sottostrat u jtejjeb l-adeżjoni tal-film, iżda wkoll jibdel l-istruttura tal-film. Fil-kisi tal-isputtering tal-frekwenza tar-radju, il-preparazzjoni tal-membrana konduttiva flimkien mal-polarizzazzjoni DC: il-preparazzjoni tal-membrana dielettrika flimkien mal-polarizzazzjoni tal-irfinar.
(3) Temperatura tas-sottostrat. It-temperatura tas-sottostrat għandha impatt akbar fuq l-istress intern tal-film, li huwa dovut għall-fatt li t-temperatura taffettwa direttament l-attività tal-atomi depożitati fuq is-sottostrat, u b'hekk tiddetermina l-kompożizzjoni tal-film, l-istruttura, id-daqs medju tal-qamħ, l-orjentazzjoni tal-kristall u n-nuqqas ta' komplutezza.
–Dan l-artiklu ġie ppubblikat minnmanifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwuGuangdong Zhenhua
Ħin tal-posta: 05 ta' Jannar 2024