ലോഹ ജൈവ രാസ നീരാവി നിക്ഷേപം (MOCVD), വാതക വസ്തുക്കളുടെ ഉറവിടം ലോഹ ജൈവ സംയുക്ത വാതകമാണ്, കൂടാതെ നിക്ഷേപത്തിന്റെ അടിസ്ഥാന പ്രതിപ്രവർത്തന പ്രക്രിയ CVD-ക്ക് സമാനമാണ്.
1.MOCVD അസംസ്കൃത വാതകം
MOCVD-ക്ക് ഉപയോഗിക്കുന്ന വാതക സ്രോതസ്സ് ലോഹ-ജൈവ സംയുക്തം (MOC) വാതകമാണ്. ലോഹ-ജൈവ സംയുക്തങ്ങൾ ലോഹങ്ങളുമായി ജൈവ പദാർത്ഥങ്ങൾ സംയോജിപ്പിച്ച് ഉൽപാദിപ്പിക്കുന്ന സ്ഥിരതയുള്ള സംയുക്തങ്ങളാണ്. ജൈവ സംയുക്തങ്ങളിൽ ആൽക്കൈൽ, ആരോമാറ്റിക് എന്നിവയുണ്ട്. ആൽക്കൈലിൽ മീഥൈൽ, എഥൈൽ, പ്രൊപൈൽ, ബ്യൂട്ടൈൽ എന്നിവ ഉൾപ്പെടുന്നു. ആൽക്കൈലിൽ മീഥൈൽ, എഥൈൽ, പ്രൊപൈൽ, ബ്യൂട്ടൈൽ എന്നിവ ഉൾപ്പെടുന്നു. ഫിനൈൽ ഹോമോലോഗുകൾ, ട്രൈമെഥൈൽ ഗാലിയം, [Ga(CH) എന്നിവയുൾപ്പെടെയുള്ള ആരോമാറ്റിക്.3)3], ട്രൈമീഥൈൽ അലൂമിനിയം [Al(CH3)3] ഫിലിം പാളിയിലെ മൂന്ന്, അഞ്ച് സംയുക്തങ്ങളിൽ മൈക്രോഇലക്ട്രോണിക്സ്, ഒപ്റ്റോഇലക്ട്രോണിക്സ്, സെമികണ്ടക്ടറുകൾ എന്നിവയുടെ നിക്ഷേപത്തിനായി, ഉദാഹരണത്തിന് Ga(CH)3)3 ഇൻഗാൻ ലുമിനസെന്റ് പാളിയിലെ എൽഇഡി വിളക്കുകളുടെ എപ്പിറ്റാക്സിയൽ വളർച്ചയിൽ സിലിക്കൺ വേഫറിലോ സഫയറിലോ അമോണിയ ഉണ്ടാകാം. എൽഇഡി വിളക്കുകൾ ടങ്സ്റ്റൺ ഇൻകാൻഡസെന്റ് ഊർജ്ജ സംരക്ഷണത്തേക്കാൾ 90% കൂടുതലാണ്, 60% ൽ കൂടുതൽ ഊർജ്ജ സംരക്ഷണത്തേക്കാൾ ഫ്ലൂറസെന്റ് വിളക്കുകളാണ്. എൽഇഡി വിളക്കുകൾ ടങ്സ്റ്റൺ ഇൻകാൻഡസെന്റ് വിളക്കുകളേക്കാൾ 90% കൂടുതൽ ഊർജ്ജ കാര്യക്ഷമതയും ഫ്ലൂറസെന്റ് വിളക്കുകളേക്കാൾ 60% കൂടുതൽ ഊർജ്ജ കാര്യക്ഷമവുമാണ്. ഇന്ന്, എല്ലാത്തരം തെരുവ് വിളക്കുകളും, ലൈറ്റിംഗ് വിളക്കുകളും, ഓട്ടോമൊബൈൽ വിളക്കുകളും അടിസ്ഥാനപരമായി MOCVD നിർമ്മിക്കുന്ന LED പ്രകാശം പുറപ്പെടുവിക്കുന്ന ഫിലിമുകളാണ് ഉപയോഗിക്കുന്നത്.
2. നിക്ഷേപ താപനില
ജൈവ ലോഹ സംയുക്തങ്ങളുടെ വിഘടന താപനില കുറവാണ്, കൂടാതെ നിക്ഷേപ താപനില HCVD യേക്കാൾ കുറവാണ്. MOCVD നിക്ഷേപിക്കുന്ന TiN ന്റെ നിക്ഷേപ താപനില ഏകദേശം 500 ഡിഗ്രി വരെ കുറയ്ക്കാൻ കഴിയും.
–ഈ ലേഖനം പ്രസിദ്ധീകരിച്ചത്വാക്വം കോട്ടിംഗ് മെഷീൻ നിർമ്മാതാവ്ഗുവാങ്ഡോംഗ് ഷെൻഹുവ
പോസ്റ്റ് സമയം: ഒക്ടോബർ-20-2023