Karštos vielos lanku sustiprintos plazmos cheminio garų nusodinimo technologija naudoja karštos vielos lankinį pistoletą lanko plazmai skleisti, sutrumpintai vadinama karštos vielos lankiniu PECVD technologija. Ši technologija yra panaši į karštos vielos lankinio pistoleto jonų dengimo technologiją, tačiau skirtumas yra tas, kad karštos vielos lankinio pistoleto joninio dengimo būdu gautai kietai plėvelei karštos vielos lankinio pistoleto skleidžiamas lanko šviesos elektronų srautas kaitina ir išgarina metalą tiglyje, o karštos vielos lankinis šviesos PECVD metodas yra tiekiamas reakcijos dujomis, tokiomis kaip CH4 ir H2, kurios naudojamos deimantinėms plėvelėms nusodinti. Dėl karštos vielos lankinio pistoleto skleidžiamos didelio tankio lanko išlydžio srovės reaktyvieji dujų jonai sužadinami, kad susidarytų įvairios aktyvios dalelės, įskaitant dujų jonus, atominius jonus, aktyvias grupes ir kt.
Karštosios vielos lanko PECVD įrenginyje už dengimo patalpos ribų vis dar sumontuotos dvi elektromagnetinės ritės, dėl kurių didelio tankio elektronų srautas juda link anodo ir sukasi, padidindamas elektronų srauto ir reakcijos dujų susidūrimo bei jonizacijos tikimybę. Elektromagnetinė ritė taip pat gali susilieti į lanko koloną, kad padidėtų visos nusodinimo kameros plazmos tankis. Lanko plazmoje šių aktyviųjų dalelių tankis yra didelis, todėl ant ruošinio lengviau nusodinti deimantines plėveles ir kitus plėvelės sluoksnius.
—— Šį straipsnį išleido „Guangdong Zhenhua Technology“,optinių dengimo mašinų gamintojas.
Įrašo laikas: 2023 m. gegužės 5 d.