(1) Sputtergas. D'Sputtergas soll d'Charakteristike vun enger héijer Sputterausbezuelung, inert zum Zilmaterial, bëlleg, einfach ze kréien, héich Rengheet an aner Charakteristiken hunn. Am Allgemengen ass Argon dat ideal Sputtergas.
(2) Sputterspannung a Substratspannung. Dës zwee Parameteren hunn en entscheedenden Afloss op d'Charakteristike vum Film. D'Sputterspannung beaflosst net nëmmen d'Oflagerungsquote, mä och d'Struktur vum ofgelagerte Film eescht. De Substratpotenzial beaflosst direkt den Elektronen- oder Ionenfloss vun der mënschlecher Injektioun. Wann de Substrat geerdet ass, gëtt e vun gläichwäertegen Elektronen bombardéiert; wann de Substrat suspendéiert ass, kritt en am Glüh-Entladungsberäich e liicht negativt Potenzial am Verhältnes zum Buedem vum Suspensionspotenzial V1, an de Potenzial vum Plasma ronderëm de Substrat V2 ass méi héich wéi de Substratpotenzial, wat zu engem gewësse Grad u Bombardement vun Elektronen a positiven Ionen féiert, wat zu Ännerungen an der Filmdicke, Zesummesetzung an aner Charakteristiken féiert: wann de Substrat gezielt eng Virspannung ugewannt gëtt, fir datt se mat der Polaritéit vun der elektrescher Akzeptanz vun Elektronen oder Ionen iwwereneestëmmt, kann net nëmmen de Substrat gereinegt ginn an d'Adhäsioun vum Film verbessert ginn, mä och d'Struktur vum Film geännert ginn. Bei der Radiofrequenz-Sputterbeschichtung gëtt d'Virbereedung vun der Leedermembran plus Gläichstroumvirspannung: d'Virbereedung vun der dielektrescher Membran plus Ofstëmmungsvirspannung.
(3) Substrattemperatur. D'Substrattemperatur huet e gréisseren Afloss op d'intern Spannung vum Film, well d'Temperatur direkt d'Aktivitéit vun den ofgesaten Atomer um Substrat beaflosst a sou d'Zesummesetzung vum Film, d'Struktur, déi duerchschnëttlech Käregréisst, d'Kristallorientéierung an d'Onvollstännegkeet bestëmmt.
– Dësen Artikel gouf publizéiert vunHiersteller vu VakuumbeschichtungsmaschinnenGuangdong Zhenhua
Zäitpunkt vun der Verëffentlechung: 05. Januar 2024