(1) Gaza sputterkirinê. Divê gaza sputterkirinê xwedî taybetmendiyên hilberîna sputterkirinê ya bilind, bêbandorbûna li hember materyalê hedef, erzanbûn, bi hêsanî bidestxistina paqijiya bilind û taybetmendiyên din be. Bi gelemperî, argon gaza sputterkirinê ya îdealtir e.
(2) Voltaja sputterkirinê û voltaja substratê. Ev her du parametre bandorek girîng li ser taybetmendiyên fîlmê dikin, voltaja sputterkirinê ne tenê bandorê li rêjeya danînê dike, lê di heman demê de bandorek cidî li ser avahiya fîlma danînkirî jî dike. Potansiyela substratê rasterast bandorê li herikîna elektron an îyonê ya derzîkirina mirovan dike. Ger substrat erdî be, ew ji hêla elektronên wekhev ve tê bombebaran kirin; ger substrat were daliqandin, ew di qada derxistina şewqê de ye ku potansiyelek hinekî neyînî ya li gorî erdê ya potansiyela daliqandinê V1 bistîne, û potansiyela plazmayê li dora substratê V2 ji potansiyela substratê bilindtir be, ku dê bibe sedema astek diyarkirî ya bombebarana elektron û îyonên erênî, ku di encamê de dibe sedema guhertinên di qalindahiya fîlmê, pêkhate û taybetmendiyên din de: ger substrat bi zanebûn voltaja biasê bikar bîne, da ku ew li gorî polarîteya qebûlkirina elektrîkê ya elektron an îyonan be, ne tenê dikare substratê paqij bike û girêdana fîlmê zêde bike, lê di heman demê de avahiya fîlmê jî biguherîne. Di pêça sputterkirina frekansa radyoyê de, amadekirina parzûna rêber plus biasê DC: amadekirina parzûna dielektrîk plus biasê mîhengkirinê.
(3) Germahiya substratê. Germahiya substratê bandorek mezintir li ser stresa navxweyî ya fîlmê dike, ji ber ku germahî rasterast bandorê li çalakiya atomên li ser substratê dike, bi vî rengî pêkhateya fîlmê, avahî, mezinahiya navînî ya dendikê, arasteya krîstalê û netemambûnê diyar dike.
- Ev gotar ji hêlaçêkerê makîneya boyaxkirina valahiyêGuangdong Zhenhua
Dema weşandinê: Çile-05-2024