(1) 스퍼터링 가스. 스퍼터링 가스는 높은 스퍼터링 수율, 타겟 물질에 대한 불활성, 저렴한 가격, 고순도 재료 확보 용이성 등의 특성을 가져야 합니다. 일반적으로 아르곤이 가장 이상적인 스퍼터링 가스입니다.
(2) 스퍼터링 전압과 기판 전압. 이 두 가지 매개변수는 박막의 특성에 중요한 영향을 미치며, 스퍼터링 전압은 증착 속도뿐만 아니라 증착 박막의 구조에도 심각한 영향을 미칩니다. 기판 전위는 전자 또는 이온의 흐름에 직접적인 영향을 미칩니다. 기판이 접지되면 등가 전자의 충격을 받습니다. 기판이 부유되면 글로우 방전 영역에서 부유 전위 V1의 접지에 비해 약간 음의 전위를 얻고, 기판 주변 플라즈마 전위 V2는 기판 전위보다 높아져 전자와 양이온의 일정 수준의 충격을 유발하여 박막의 두께, 조성 및 기타 특성의 변화를 초래합니다. 기판에 의도적으로 바이어스 전압을 인가하여 전자 또는 이온의 전기적 수용 극성에 맞게 조정하면 기판을 정화하고 박막의 접착력을 향상시킬 뿐만 아니라 박막의 구조도 변화시킬 수 있습니다. 무선 주파수 스퍼터링 코팅에서는 도체막 준비와 DC 바이어스, 유전체막 준비와 튜닝 바이어스가 필요합니다.
(3) 기판 온도. 기판 온도는 박막의 내부 응력에 더 큰 영향을 미치는데, 이는 온도가 기판에 증착된 원자의 활동에 직접적인 영향을 미쳐 박막의 조성, 구조, 평균 결정립 크기, 결정 방위 및 불완전성을 결정하기 때문입니다.
–이 기사는 다음에서 발행합니다.진공 코팅기 제조업체광둥진화
게시 시간: 2024년 1월 5일