បច្ចេកវិទ្យានៃការស្រោបទឹកថ្នាំ

1. លក្ខណៈពិសេសនៃថ្នាំកូត sputter
បើប្រៀបធៀបជាមួយថ្នាំកូតរំហួតសុញ្ញកាសធម្មតា ថ្នាំកូត sputtering មានលក្ខណៈពិសេសដូចខាងក្រោមៈ
(1) សារធាតុណាមួយអាចត្រូវបាន sputtered ជាពិសេសចំណុចរលាយខ្ពស់ ធាតុសម្ពាធចំហាយទាប និងសមាសធាតុ។ ដរាបណាវារឹង មិនថាជាលោហៈ សារធាតុ semiconductor អ៊ីសូឡង់ សមាសធាតុ និងល្បាយ។ល។ ថាតើវាជាប្លុក សម្ភារៈគ្រាប់អាចប្រើជាសម្ភារៈគោលដៅបាន។ ដោយសារការរលាយ និងប្រភាគតិចតួចកើតឡើងនៅពេលដែលការប្រឡាក់សម្ភារៈអ៊ីសូឡង់ និងយ៉ាន់ស្ព័រដូចជាអុកស៊ីដ ពួកវាអាចត្រូវបានប្រើដើម្បីរៀបចំខ្សែភាពយន្តស្តើង និងខ្សែភាពយន្តយ៉ាន់ស្ព័រដែលមានសមាសធាតុឯកសណ្ឋានស្រដៀងនឹងវត្ថុធាតុគោលដៅ ហើយសូម្បីតែខ្សែភាពយន្ត superconducting ជាមួយសមាសធាតុស្មុគស្មាញ។
(2) ភាពស្អិតល្អរវាងខ្សែភាពយន្តដែលបែកខ្ញែក និងស្រទាប់ខាងក្រោម។ ចាប់តាំងពីថាមពលនៃអាតូម sputtered គឺ 1-2 លំដាប់នៃរ៉ិចទ័រខ្ពស់ជាងអាតូមដែលហួតនោះ ការបំប្លែងថាមពលនៃភាគល្អិតថាមពលខ្ពស់ដែលដាក់នៅលើស្រទាប់ខាងក្រោមបង្កើតថាមពលកំដៅខ្ពស់ ដែលជួយបង្កើនការស្អិតរបស់អាតូម sputtered ទៅស្រទាប់ខាងក្រោម។ ផ្នែកមួយនៃអាតូមដែលបញ្ចេញថាមពលខ្ពស់នឹងត្រូវបានចាក់ទៅតាមកម្រិតផ្សេងៗគ្នា បង្កើតបានជាស្រទាប់ pseudo-diffusion នៅលើស្រទាប់ខាងក្រោមដែលអាតូម sputtered និងអាតូមនៃសម្ភារៈស្រទាប់ខាងក្រោម "miscible" ជាមួយគ្នា។ លើសពីនេះទៀតក្នុងអំឡុងពេលនៃការទម្លាក់គ្រាប់បែកនៃភាគល្អិតដែលបែកខ្ញែក ស្រទាប់ខាងក្រោមតែងតែត្រូវបានសម្អាត និងធ្វើឱ្យសកម្មនៅក្នុងតំបន់ប្លាស្មា ដែលយកអាតូម precipitated មិនល្អចេញ សម្អាត និងធ្វើឱ្យផ្ទៃស្រទាប់ខាងក្រោមសកម្ម។ ជាលទ្ធផល ភាពស្អិតជាប់នៃស្រទាប់ខ្សែភាពយន្តដែលស្រក់ទៅនឹងស្រទាប់ខាងក្រោមត្រូវបានពង្រឹងយ៉ាងខ្លាំង។
(3) ដង់ស៊ីតេខ្ពស់នៃថ្នាំកូត sputter, pinholes តិច, និងភាពបរិសុទ្ធខ្ពស់នៃស្រទាប់ខ្សែភាពយន្តដោយសារតែមិនមានការចម្លងរោគ crucible, ដែលជាការជៀសមិនរួចនៅក្នុងចំហាយ vacuum deposition ក្នុងអំឡុងពេលដំណើរការថ្នាំកូត sputter ។
(4) ការគ្រប់គ្រងបានល្អនិងអាចធ្វើម្តងទៀតនៃកម្រាស់ខ្សែភាពយន្ត។ ដោយសារចរន្តបញ្ចេញ និងចរន្តគោលដៅអាចគ្រប់គ្រងដោយឡែកពីគ្នាកំឡុងពេលស្រោបស្រោប កម្រាស់របស់ខ្សែភាពយន្តអាចត្រូវបានគ្រប់គ្រងដោយការគ្រប់គ្រងចរន្តគោលដៅ ដូច្នេះការគ្រប់គ្រងនៃកម្រាស់របស់ខ្សែភាពយន្ត និងការផលិតឡើងវិញនៃកម្រាស់ខ្សែភាពយន្តដោយការជ្រាបទឹកច្រើននៃថ្នាំកូត sputter គឺល្អ ហើយខ្សែភាពយន្តនៃកម្រាស់ដែលបានកំណត់ទុកជាមុនអាចត្រូវបានស្រោបដោយប្រសិទ្ធភាព។ លើសពីនេះទៀតថ្នាំកូត sputter អាចទទួលបានកម្រាស់ខ្សែភាពយន្តឯកសណ្ឋានលើផ្ទៃធំមួយ។ ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយសម្រាប់បច្ចេកវិទ្យាថ្នាំកូត sputter ទូទៅ (ជាចម្បង dipole sputtering) ឧបករណ៍មានភាពស្មុគស្មាញនិងត្រូវការឧបករណ៍សម្ពាធខ្ពស់; ល្បឿននៃការបង្កើតខ្សែភាពយន្តនៃការបញ្ចេញទឹករំអិលមានកម្រិតទាប អត្រានៃការរំហួតដោយខ្វះចន្លោះគឺ 0.1 ~ 5nm/min ខណៈពេលដែលអត្រា sputtering គឺ 0.01 ~ 0.5nm/min ។ ការកើនឡើងសីតុណ្ហភាពនៃស្រទាប់ខាងក្រោមគឺខ្ពស់ និងងាយរងគ្រោះទៅនឹងឧស្ម័នមិនបរិសុទ្ធ។ល។ ទោះជាយ៉ាងណាក៏ដោយ ដោយសារតែការអភិវឌ្ឍន៍នៃបច្ចេកវិទ្យា RF sputtering និង magnetron sputtering មានការរីកចំរើនយ៉ាងខ្លាំងក្នុងការសម្រេចបាននូវការបញ្ចេញទឹករំអិលយ៉ាងលឿន និងកាត់បន្ថយសីតុណ្ហភាពស្រទាប់ខាងក្រោម។ ជាងនេះទៅទៀត ក្នុងប៉ុន្មានឆ្នាំចុងក្រោយនេះ វិធីសាស្រ្តនៃការស្រោបស្ពែមថ្មីកំពុងត្រូវបានស៊ើបអង្កេត - ផ្អែកលើការស្រោបដោយម៉ាញេទិក Planar - ដើម្បីកាត់បន្ថយសម្ពាធខ្យល់ sputtering រហូតដល់សូន្យសម្ពាធដែលសម្ពាធនៃការបញ្ចេញឧស្ម័នកំឡុងពេលបញ្ចេញទឹកនឹងសូន្យ។