Teknụzụ mkpuchi sputtering

1, Atụmatụ nke mkpuchi sputter
Ma e jiri ya tụnyere mkpuchi ikuku evaporation nkịtị, mkpuchi sputtering nwere atụmatụ ndị a:
(1) Enwere ike ịgbasa ihe ọ bụla, ọkachasị ebe agbaze dị elu, ihe nrụgide uzuoku dị ala na ihe ndị mejupụtara ya. Ọ bụrụhaala na ọ siri ike, ma ọ bụ ígwè, semiconductor, ihe mkpuchi, ihe mejupụtara na ngwakọta, wdg, ma ọ bụ blọk, enwere ike iji ihe granular dị ka ihe ebumnuche. Ebe ọ bụ na obere mmebi na nkewa na-eme mgbe a na-agba ihe mkpuchi na alloys dị ka oxides, enwere ike iji ha kwadebe ihe nkiri dị gịrịgịrị na ihe nkiri alloy nwere ihe mejupụtara yiri nke ihe ebumnuche, yana ọbụna ihe nkiri superconducting nwere ihe mejupụtara mgbagwoju anya.' Na mgbakwunye, enwere ike iji usoro sputtering reactive mepụta ihe nkiri nke ihe mejupụtara dị iche na ihe ebumnuche, dị ka oxides, nitrides, carbide na silicides.
(2) Njiko dị mma n'etiti ihe nkiri ahụ a gbapụrụ agbapụ na ihe mkpuchi ahụ. Ebe ọ bụ na ike nke atọm a gbapụrụ agbapụ dị oke elu karịa nke atọm a gbapụrụ agbapụ, mgbanwe ike nke ihe ndị dị ike dị elu nke a na-etinye na ihe mkpuchi ahụ na-emepụta ike okpomọkụ dị elu, nke na-eme ka njiko nke atọm a gbapụrụ agbapụ na ihe mkpuchi ahụ dịkwuo mma. A ga-agbanye akụkụ nke atọm a gbapụrụ agbapụ dị elu n'ọkwa dị iche iche, na-emepụta ihe a na-akpọ oyi akwa mgbasa ozi pseudo-diffusion na ihe mkpuchi ahụ ebe atọm a gbapụrụ agbapụ na atọm nke ihe mkpuchi ahụ "na-agbanwe" ibe ha. Na mgbakwunye, n'oge a na-agbawa ihe ndị na-agbapụta, a na-ehicha ma na-arụ ọrụ ihe mkpuchi ahụ mgbe niile na mpaghara plasma, nke na-ewepụ atọm a gbapụrụ agbapụ na-adịghị mma, na-eme ka elu ihe mkpuchi ahụ dị ọcha ma na-eme ka ọ rụọ ọrụ. N'ihi ya, a na-eme ka njiko nke oyi akwa ihe mkpuchi ahụ dịkwuo mma.
(3) Oke njupụta nke mkpuchi sputter, obere oghere dị n'ime ya, na ịdị ọcha dị elu nke oyi akwa ihe nkiri ahụ n'ihi na enweghị mmetọ a na-apụghị ịgbagha agbagha, nke a na-apụghị izere ezere na ntinye uzuoku vapour n'oge usoro mkpuchi sputter.
(4) Ọkwa dị mma na ike imegharị nke ọkpụrụkpụ ihe nkiri ahụ. Ebe ọ bụ na enwere ike ijikwa ọkụ na ọkụ na-agbapụ iche iche n'oge mkpuchi sputter, enwere ike ijikwa ọkpụrụkpụ ihe nkiri ahụ site na ijikwa ọkụ na-agbapụ, ya mere, ike ijikwa ọkpụrụkpụ ihe nkiri ahụ na ike imegharị nke ọkpụrụkpụ ihe nkiri ahụ site na ọtụtụ sputtering nke mkpuchi sputter dị mma, a pụkwara iji ihe nkiri nke ọkpụrụkpụ edobere kpuchie ya nke ọma. Na mgbakwunye, mkpuchi sputter nwere ike nweta ọkpụrụkpụ ihe nkiri otu n'elu nnukwu mpaghara. Agbanyeghị, maka teknụzụ mkpuchi sputter n'ozuzu (karịsịa dipole sputtering), akụrụngwa ahụ dị mgbagwoju anya ma chọọ ngwaọrụ nrụgide dị elu; ọsọ nhazi ihe nkiri nke sputter dị ala, ọnụego ntinye ikuku vacuum bụ 0.1~5nm/min, ebe ọnụego sputtering bụ 0.01~0.5nm/min; mmụba okpomọkụ substrate dị elu ma dịkwa mfe ịnweta gas na-adịghị ọcha, wdg. Agbanyeghị, n'ihi mmepe nke teknụzụ sputtering RF na magnetron sputtering, enwere ọganihu dị ukwuu n'inweta ngwa ngwa sputtering na ibelata okpomọkụ substrate. Ọzọkwa, n'afọ ndị na-adịbeghị anya, a na-enyocha ụzọ mkpuchi sputter ọhụrụ - dabere na planar magnetron sputtering - iji belata nrụgide ikuku sputtering ruo mgbe enweghị nrụgide sputtering ebe nrụgide nke gas oriri n'oge sputtering agaghị abụ efu.